[發(fā)明專利]半導(dǎo)體裝置以及應(yīng)變監(jiān)視裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310394835.5 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104061848A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-09-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 安本恭章;梁瀨直子;尾原亮一;增子真吾;佐野賢也;垣內(nèi)賴人;野田隆夫;飯?zhí)锒刈?/a> | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社東芝 |
| 主分類號(hào): | G01B7/16 | 分類號(hào): | G01B7/16 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿軍 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 裝置 以及 應(yīng)變 監(jiān)視 | ||
相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
本申請(qǐng)基于2013年3月21日申請(qǐng)的在先日本專利申請(qǐng)2013-057711號(hào)并享受其優(yōu)先權(quán),其全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用包含在本申請(qǐng)中。
技術(shù)領(lǐng)域
這里說(shuō)明的實(shí)施方式整體上涉及半導(dǎo)體裝置以及應(yīng)變監(jiān)視裝置。
背景技術(shù)
以往,用于電動(dòng)機(jī)控制電路、電力變換設(shè)備等的功率半導(dǎo)體裝置中,已知有功率半導(dǎo)體元件經(jīng)由焊料層而與銅基基板(copper base substarte)接合、并在該功率半導(dǎo)體元件的表面設(shè)有金屬箔應(yīng)變儀的裝置。
若通過(guò)通電而功率半導(dǎo)體元件發(fā)熱,則由于硅(Si)、焊料合金及銅(Cu)的熱膨脹系數(shù)的差異,在功率半導(dǎo)體元件及功率半導(dǎo)體元件附近發(fā)生熱應(yīng)變。應(yīng)變儀對(duì)其應(yīng)變量進(jìn)行監(jiān)測(cè)。
但是,在有望作為下一代功率半導(dǎo)體元件的碳化硅(SiC)功率半導(dǎo)體元件中,其使用溫度(200℃~400℃)比硅功率半導(dǎo)體元件的使用溫度(100℃~150℃)高。
其結(jié)果,存在應(yīng)變儀劣化而應(yīng)變儀的靈敏度以及響應(yīng)特性等降低的問(wèn)題。因而,存在SiC功率半導(dǎo)體裝置的可靠性受損的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的問(wèn)題是提供可靠性高的半導(dǎo)體裝置。
根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式,在半導(dǎo)體裝置中,半導(dǎo)體基板具有第1及第2區(qū)域。在上述半導(dǎo)體基板的上述第1區(qū)域中設(shè)有絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管。設(shè)有應(yīng)變儀部,該應(yīng)變儀部具有:長(zhǎng)條的金屬電阻體,設(shè)置在上述半導(dǎo)體基板的上述第2區(qū)域中的、上述半導(dǎo)體基板的上表面的內(nèi)側(cè);第1絕緣膜,設(shè)置在上述半導(dǎo)體基板與上述金屬電阻體之間,延伸至上述半導(dǎo)體基板的上述上表面;以及第2絕緣膜,跨過(guò)上述金屬電阻體而設(shè)置在上述第1絕緣膜上方。上述半導(dǎo)體基板載置于基板上。
發(fā)明效果
本發(fā)明能夠提供可靠性高的半導(dǎo)體裝置。
附圖說(shuō)明
圖1是表示實(shí)施方式1的半導(dǎo)體裝置的剖視圖。
圖2是表示搭載于實(shí)施方式1的半導(dǎo)體裝置的半導(dǎo)體元件的圖。
圖3是放大表示實(shí)施方式1的半導(dǎo)體元件所具有的應(yīng)變儀部的剖視圖。
圖4是表示實(shí)施方式1的應(yīng)變監(jiān)視裝置的圖。
圖5是表示實(shí)施方式1的應(yīng)變監(jiān)視裝置的動(dòng)作的流程圖。
圖6是將實(shí)施方式1的半導(dǎo)體裝置的制造工序的主要部分按順序表示的剖視圖。
圖7是將實(shí)施方式1的半導(dǎo)體裝置的制造工序的主要部分按順序表示的剖視圖。
圖8是表示實(shí)施方式1的半導(dǎo)體裝置的制造工序的主要部分的剖視圖。
圖9是表示搭載于實(shí)施方式2的半導(dǎo)體裝置的半導(dǎo)體元件上的俯視圖。
圖10是表示搭載于實(shí)施方式2的半導(dǎo)體裝置上的其他半導(dǎo)體元件的俯視圖。
具體實(shí)施方式
以下,參照附圖對(duì)一實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。附圖中,相同的附圖標(biāo)記表示相同或類似的部分。對(duì)附圖中的相同部分賦予相同的編號(hào)并適當(dāng)省略其詳細(xì)說(shuō)明,而對(duì)不同的部分進(jìn)行說(shuō)明。
(實(shí)施方式1)
利用圖1~圖3對(duì)本實(shí)施方式的半導(dǎo)體裝置進(jìn)行說(shuō)明。圖1是表示本實(shí)施方式的半導(dǎo)體裝置的剖視圖。圖2是表示搭載于半導(dǎo)體裝置上的半導(dǎo)體元件的圖,圖2(a)是其俯視圖,圖2(b)是沿著圖2(a)的A-A線切斷并向箭頭方向觀察的剖視圖。圖3是放大表示半導(dǎo)體元件所具有的應(yīng)變儀部的剖視圖。
如圖1所示,本實(shí)施方式的半導(dǎo)體裝置10是用于以大電力動(dòng)作的電動(dòng)機(jī)控制電路、電力變換設(shè)備等的碳化硅(SiC)功率半導(dǎo)體裝置。半導(dǎo)體元件11是SiC半導(dǎo)體元件。半導(dǎo)體裝置10是搭載有兩個(gè)半導(dǎo)體元件11的所謂2合1(2in1)的半導(dǎo)體裝置。
在半導(dǎo)體元件11中,在SiC半導(dǎo)體基板12上以單片方式設(shè)有能夠進(jìn)行大電力的開(kāi)關(guān)的絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOS晶體管)13、以及對(duì)由通電時(shí)的發(fā)熱引起的半導(dǎo)體基板12的熱應(yīng)變進(jìn)行監(jiān)測(cè)的應(yīng)變儀部14。
半導(dǎo)體基板12經(jīng)由焊料層18載置于基板15。基板15具有銅基基板15a、絕緣層15b以及電路圖案15c。在銅基基板15a上設(shè)有絕緣層15b,在絕緣層15b上設(shè)有電路圖案15c。半導(dǎo)體基板12與電路圖案15c電連接。
MOS晶體管13的源電極(未圖示)經(jīng)由焊料層19而與引線框20連接。應(yīng)變儀部14的儀器端子(未圖示)與儀器引線21連接。
基板15上安裝有筒狀的殼體22。筒狀的殼體22上蓋著蓋體23。通過(guò)基板15、殼體22以及蓋體23構(gòu)成了收納半導(dǎo)體元件11的箱型封裝。在封裝內(nèi)填充有樹(shù)脂24。引線框20以及儀器引線21從蓋體23側(cè)引出至外部。
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