[發明專利]一種超細β碳化硅及其制備方法有效
| 申請號: | 201310393354.2 | 申請日: | 2013-09-02 |
| 公開(公告)號: | CN103466624A | 公開(公告)日: | 2013-12-25 |
| 發明(設計)人: | 李新家;賈明;馬歡;曹恒 | 申請(專利權)人: | 西安通鑫半導體輔料有限公司 |
| 主分類號: | C01B31/36 | 分類號: | C01B31/36 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 徐文權 |
| 地址: | 710300 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 碳化硅 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于化工領域,具體涉及一種超細β碳化硅及其制備方法。?
背景技術
β碳化硅微粉有很高的化學穩定性、高硬度、高熱導率、低熱脹系數、寬能帶隙、高電子漂移速度、高電子遷移率、特殊的電阻溫度特性等,被廣泛應用于電子、信息、精密加工技術、軍工、航空航天、高級耐火材料、特種陶瓷材料、高級磨削材料和增強材料等領域。β碳化硅生產方式目前主要有三種:激光法、等離子法和固相合成法。前兩種工藝主要合成的產品為納米及亞微米粉末。固相合成法目前工藝方式較多,但都具有一定技術難度,產品大多存在β相含量不高、產品雜質多、難以批量生產等多項缺點。?
發明內容
本發明的目的在于克服上述問題,提供一種超細β碳化硅及其制備方法,該方法制備的超細β碳化硅可為電子、信息、精密加工技術、軍工、航空航天、高級耐火材料、特種陶瓷材料、高級磨削材料和增強材料等領域提供優質的原料。?
為了達到上述目的,本發明所采用的技術方案是:?
一種超細β碳化硅的制備方法,包括以下步驟:?
1)混合樣品:?
將水洗好的硅源和碳源按1:(0.2~2)的比例混合,并加水攪拌均勻,過濾,烘干,得到樣品A;?
2)高溫反應:?
將樣品A裝入坩堝,在樣品上鋪一層活性炭;放入高溫爐內,在1200~1800℃的溫度下保溫1~10h,反應完后得到樣品B;?
3)煅燒除炭:?
將樣品B粉碎過20目篩網后,放入瓷坩堝內,然后在400~900℃的溫度下煅燒1~10h,除去游離炭,得到樣品C;?
4)酸堿洗除雜:?
將樣品C倒入球磨罐,加水球磨;再向球磨完的樣品溶液中加入NaOH,使樣品溶液的堿濃度達到1~20%,并加熱;將加堿反應后的樣品過濾水洗,水洗至濾液的電導率為100μS/cm以下,pH值為9以下;取出水洗后的樣品并加水攪拌,再向其中加入無機酸,使溶液酸濃度達到1~10%,并加熱;待反應完后過濾砂漿,對濾餅進行水洗、烘干處理之后,過500目篩網,得到超細β碳化硅。?
所述步驟1)中,硅源是從硅片切割廢砂漿中提取的,硅源用水洗0~5次;碳源為活性炭、炭黑或木炭中的一種或多種的混合物。?
所述步驟1)中,過濾所用的過濾器為高壓過濾器、離心分離器、真空過濾器或板框壓濾機。?
所述步驟1)中,烘干所用的干燥器為熱風循環烘箱、普通干燥機或真空干燥器。?
所述步驟2)中的坩堝為石墨坩堝、剛玉坩堝、氧化鋯坩堝或碳化硅坩堝。?
所述步驟2)中,高溫爐為箱式高溫爐、高溫電阻爐、高溫真空爐、箱式氣氛爐或高溫管式氣氛爐。?
所述步驟3)中,樣品B在瓷坩堝內鋪成厚度為1~10cm的樣品層。?
所述步驟4)中,加入無機堿反應時的加熱溫度為50~100℃,反應時間為1~10h;加入無機酸反應時的加熱溫度為40~80℃,反應時間為1~10h。?
所述步驟4)中,加入的無機酸為鹽酸、硫酸或氫氟酸中的一種或多種。?
本發明還公開了一種超細β碳化硅,所述β碳化硅的粒徑為0.5~6μm,無α相碳化硅生成,β碳化硅含量在98%以上。?
與現有技術相比,本發明具有以下有益效果:?
本發明超細β碳化硅的制備方法通過混合樣品、高溫反應、煅燒除炭、酸堿洗除雜這四個步驟制備β碳化硅,其工藝步驟簡單,操作方便,所制備得到的超細β碳化硅粒徑為3μm左右,成本低、無α相碳化硅、雜質含量低、粒度分布均勻,β碳化硅含量在98%以上。制備出的超細β碳化硅可為電子、信息、精密加工技術、軍工、航空航天、高級耐火材料、特種陶瓷材料、高級磨削材料和增強材料等領域提供優質的原料。?
具體實施方式
本發明超細β碳化硅的制備方法,包括以下步驟:?
1)混合樣品:?
將水洗過0~5次的硅源和碳源按照1:(0.2~2)的質量比混合,并加水攪拌均勻,用高壓過濾器、離心分離器、真空過濾器或板框壓濾機過濾,再用熱風循環烘箱、普通干燥機或真空干燥器烘干,得到樣品A;硅源是從硅片切割廢砂漿中提取的,碳源為活性炭、炭黑或木炭中的一種或多種的混合物;?
2)高溫反應:?
將樣品A裝入石墨坩堝、剛玉坩堝、氧化鋯坩堝或碳化硅坩堝中,樣品A?上層鋪有活性炭。放入箱式高溫爐、高溫電阻爐、高溫真空爐、箱式氣氛爐或高溫管式氣氛爐內,在1200~1800℃的溫度下保溫1~10h,反應完后得到樣品B。?
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于西安通鑫半導體輔料有限公司,未經西安通鑫半導體輔料有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310393354.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





