[發(fā)明專利]套位除介質全息轉印膜及其制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310392505.2
• 申請日: 2013-08-29
• 公開（公告）號: CN104417114A
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發(fā)明（設計）人: 趙曉飛;吳明;王潔
• 申請（專利權）人: 濟南天業(yè)恒科技有限公司
• 主分類號: B41M5/42
• 分類號: B41M5/42;B32B27/08;B32B27/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種套位除介質全息轉印膜，包括雙向拉伸聚酯薄膜層，其特征在于，所述的雙向拉伸聚酯薄膜層上方交錯設置有介質分離層和反射介質層，所述的介質分離層、反射介質層與雙向拉伸聚酯薄膜層之間設置有模壓分離層，所述的介質分離層是一種遇水可脫離所述的模壓分離層的物質層。

2.根據(jù)權利要求1所述的套位除介質全息轉印膜，其特征在于，所述的模壓分離層為一層或兩層的高分子樹脂層。

3.根據(jù)權利要求1所述的套位除介質全息轉印膜，其特征在于，所述的介質分離層是一種遇水可脫離所述模壓分離層的被套印在模壓分離層上的油墨或涂料。

4.一種套位除介質全息轉印膜的制造方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

A、在雙向拉伸聚酯薄膜層上涂布模壓分離層；

B、在模壓分離層上壓印全息圖，使用模壓機將全息圖熱壓印在模壓分離層上，

C、使用印刷的方式將印刷圖案與全息圖按設計的樣式進行套印介質分離層，并可印入顏色油墨；

D、在介質分離層上通過真空蒸發(fā)鍍，鍍上厚度為100～300埃的反射介質，反射介質為不透明的金屬或透明高折射率的化合物；

E、將鍍后的薄膜浸入水中，使介質分離層遇水分離，從而將其上附著的介質一起分離，通過烘干得到所需的材料。

5.根據(jù)權利要求4所述的一種套位除介質全息轉印膜的制造方法，其特征在于，所述的步驟C中的介質分離層具體為：一種可以吸水溶解或吸水膨化的油墨，通過和水接觸可以與模壓后帶全息圖的模壓分離層發(fā)生分離。

6.根據(jù)權利要求4所述的一種套位除介質全息轉印膜的制造方法，其特征在于，所述的步驟D的化合物為硫化鋅或氧化硅，金屬為鋁或銅。