[發明專利]電感耦合等離子處理裝置的罩固定裝置

有效

• 申請號: 201310390661.5
• 申請日: 2010-03-25
• 公開（公告）號: CN103533739B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: 佐藤亮;齊藤均;天野健次
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙)11277
• 代理人: 劉新宇,張會華

1.一種電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具，該電感耦合等離子處理裝置包括：處理室，其具有構成頂板部分的窗構件，用于進行等離子處理；高頻天線，其被配置在上述窗構件的上方，用于在上述處理室內形成感應電場；支承構件，其用于支承上述窗構件；罩，用于覆蓋上述窗構件的下表面，上述罩固定器具用于上述電感耦合等離子處理裝置，用于固定上述罩，其特征在于，

包括：

支承部，其用于對具有作為上述罩的一部分的下表面的被支承部進行支承；

被固定部，其被固定于上述支承構件，

上述罩包括罩主體，該罩主體具有下表面和上表面，構成罩的主要部分，上述被支承部被配置在上述罩主體的上表面的上方；

上述支承部被配置在上述被支承部的下表面與上述罩主體的上表面之間。

2.一種電感耦合等離子處理裝置的罩固定裝置，該電感耦合等離子處理裝置包括：處理室，其具有構成頂板部分的窗構件，用于進行等離子處理；高頻天線，其被配置在上述窗構件的上方，用于在上述處理室內形成感應電場；支承構件，用于支承上述窗構件；罩，用于覆蓋上述窗構件的下表面，上述罩固定裝置用于上述電感耦合等離子處理裝置，用于固定上述罩，其特征在于，

上述電感耦合等離子處理裝置的罩固定裝置包括：權利要求1所述的罩固定器具；將上述罩固定器具的上述被固定部固定于上述支承構件的固定機構。

3.根據權利要求2所述的電感耦合等離子處理裝置的罩固定裝置，其特征在于，

上述固定機構是提起上述被固定部的機構。