[發(fā)明專(zhuān)利]一種矩形平面磁控濺射陰極無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310379659.8 | 申請(qǐng)日: | 2013-08-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103602953A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-02-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 彭壽;葛承全;張超群;井治;張仰平;李險(xiǎn)峰 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)建材國(guó)際工程集團(tuán)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/35 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/35 |
| 代理公司: | 上海三方專(zhuān)利事務(wù)所 31127 | 代理人: | 吳干權(quán);單大義 |
| 地址: | 200063 上海市普*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 矩形 平面 磁控濺射 陰極 | ||
[技術(shù)領(lǐng)域]
本發(fā)明涉及磁控濺射鍍膜生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體來(lái)說(shuō)是一種矩形平面磁控濺射陰極。
[背景技術(shù)]
磁控濺射技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于濺射功能膜,裝飾膜等。磁控濺射需要真空,因此磁控濺射靶需要置于真空中,因?yàn)榇趴貫R射具有“高速”、“低溫”的特點(diǎn)且可以將任何鍍材的薄膜沉積在任何基材上,因此磁控濺射已成為濺射技術(shù)的主流并廣泛應(yīng)用于大面積鍍膜生產(chǎn)中。
通常矩形平面磁控濺射陰極的靶面有效尺寸和靶座內(nèi)磁鐵的寬度相當(dāng)。陰極工作時(shí),真空腔室內(nèi)的工藝氣體發(fā)生輝光放電,電離出的離子轟擊靶材,轟擊出靶材材料并沉積在基片上,由于受到輝光放電區(qū)域的限制,電離出的工藝氣體離子被限制在一個(gè)狹窄環(huán)形的跑道上,對(duì)應(yīng)的靶面上形成一個(gè)狹窄的刻蝕區(qū)域,隨著輝光放電的進(jìn)行,靶面刻蝕區(qū)域呈“V”形且刻蝕區(qū)域越來(lái)越狹窄,隨著“V”形溝槽的逐漸加深,刻蝕會(huì)變得更為劇烈,靶材很快被刻蝕“穿透”,此時(shí)必須更換靶材,因此矩形平面陰極的靶材利用率很低,一般在30%左右。
[發(fā)明內(nèi)容]
本發(fā)明的目的是提供一種結(jié)構(gòu)新穎、能有效解決矩形平面陰極的靶材利用率很低等問(wèn)題的一種矩形平面磁控濺射陰極。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,設(shè)計(jì)一種矩形平面磁控濺射陰極,包括中靶材壓條1、中壓條2、邊靶材壓條3、邊壓條4、背板5、冷卻板6、陰極座7、支撐塊8、磁軛9、中立柱10、中磁鐵11、中磁靴12、邊磁鐵13、邊磁靴14和靶材15,其特征在于陰極座7為不導(dǎo)磁的不銹鋼材料,陰極座內(nèi)設(shè)有磁軛9,磁軛9為高導(dǎo)磁材料并通過(guò)螺栓和陰極座7固定在一起,磁軛9上設(shè)有磁鐵組件,所述的磁鐵組件包括四列磁鐵,中部?jī)闪袨橹写盆F,極性相同;兩側(cè)為邊磁鐵,極性相同,中磁鐵和邊磁鐵極性相反;磁鐵上部設(shè)有磁靴,磁鐵組件頂部設(shè)有冷卻板,冷卻板頂部設(shè)有背板,背板上部設(shè)有靶材,所述的陰極座7寬度大于兩側(cè)邊磁鐵的總跨度,靶材的總跨度大于邊磁鐵的總跨度。
所述的陰極座的寬度大于兩側(cè)邊磁鐵的總跨度的1.5倍,靶材15的總跨度大于邊磁鐵14總跨度的1.5倍。
所述的冷卻板6的材料為銅。
所述的兩中磁鐵之間設(shè)有中立柱,兩邊磁鐵與陰極座7之間分別設(shè)有支撐塊,冷卻板6的中間位置由中立柱10支撐,兩側(cè)分別由支撐塊8和陰極座7支撐。
所述的背板5上部安裝中壓條2和邊壓條4。
所述的陰極能允許靶材水平旋轉(zhuǎn)180°安裝,旋轉(zhuǎn)后第一次的刻蝕區(qū)域被移開(kāi)。
所述的冷卻板6、中壓條2和邊壓條4、背板5、中立柱10之間通過(guò)螺栓固定在陰極座7上且通過(guò)螺栓的緊固力將密封材料壓緊,支撐塊8、背板5、冷卻板6通過(guò)螺栓緊固在一起并把密封材料壓緊,形成對(duì)冷卻水通道的密封。
本發(fā)明同現(xiàn)有技術(shù)相比,將靶材第一次安裝后,經(jīng)過(guò)濺射,刻蝕區(qū)域位于靶材的一側(cè),然后將靶材水平旋轉(zhuǎn)180°再重新安裝在陰極上,進(jìn)行第二次濺射,使兩次的刻蝕區(qū)域恰好連接成一個(gè)較大的刻蝕區(qū)域,從而提高靶材的利用率。
[附圖說(shuō)明]
圖1為本發(fā)明的剖面圖;
如圖所示,圖中:1.中靶材壓條??2.中壓條??3.邊靶材壓條??4.邊壓條??5.背板??6.冷卻板??7.陰極座??8.支撐塊??9.磁軛??10.中立柱??11.中磁鐵??12.中磁靴??13.邊磁鐵??14.邊磁靴??15.靶材。
[具體實(shí)施方式]
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明,這種裝置的結(jié)構(gòu)和原理對(duì)本專(zhuān)業(yè)的人來(lái)說(shuō)是非常清楚的。
實(shí)施例1
如圖1所示,矩形平面磁控濺射陰極包括中靶材壓條1、中壓條2、邊靶材壓條3、邊壓條4、背板5、冷卻板6、陰極座7、支撐塊8、磁軛9、中立柱10、中磁鐵11、中磁靴12、邊磁鐵13、邊磁靴14和靶材15,陰極座7為不導(dǎo)磁的不銹鋼材料,陰極座內(nèi)設(shè)有磁軛9,磁軛9為高導(dǎo)磁材料并通過(guò)螺栓和陰極座7固定在一起,磁軛9上設(shè)有磁鐵組件,磁鐵組件包括四列磁鐵,中部?jī)闪袨橹写盆F,極性相同;兩側(cè)為邊磁鐵,極性相同,中磁鐵和邊磁鐵極性相反;磁鐵上部設(shè)有磁靴,磁鐵組件頂部設(shè)有冷卻板,冷卻板頂部設(shè)有背板,背板上部設(shè)有靶材,背板5上部安裝中壓條2和邊壓條4,陰極座的寬度大于兩側(cè)邊磁鐵的總跨度的1.5倍,靶材15的總跨度大于邊磁鐵14總跨度的1.5倍。陰極能允許靶材水平旋轉(zhuǎn)180°安裝,旋轉(zhuǎn)后第一次的刻蝕區(qū)域被移開(kāi)。
兩中磁鐵之間設(shè)有中立柱,兩邊磁鐵與陰極座7之間分別設(shè)有支撐塊,冷卻板6的中間位置由中立柱10支撐,兩側(cè)分別由支撐塊8和陰極座7支撐。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于中國(guó)建材國(guó)際工程集團(tuán)有限公司,未經(jīng)中國(guó)建材國(guó)際工程集團(tuán)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310379659.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





