[發明專利]用于將材料薄膜沉積在襯底上的設備和方法

在審

• 申請號: 201310379261.4
• 申請日: 2013-08-27
• 公開（公告）號: CN103633258A
• 公開（公告）日: 2014-03-12
• 發明（設計）人: 西達爾塔·哈里克思希納·莫漢;保羅·E·伯羅斯
• 申請（專利權）人: 環球展覽公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/50;H01L51/54;B05B13/04
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 王璐

1.一種將薄膜沉積在襯底上的方法，其包括：

在使多個噴嘴或襯底相對于彼此移動的同時，從所述噴嘴噴射載氣和材料，

其中將所述材料從所述噴嘴中的至少兩者沉積在所述襯底上，所述噴嘴中的所述至少兩者包含不同幾何形狀。

2.一種用于將材料薄膜沉積在襯底上的設備，其包括：

多個噴嘴，其與載氣和待沉積的材料流體連通；以及

平移機構，其經配置以在沉積過程期間，使所述襯底和所述多個噴嘴中的至少一者相對于彼此移動，

其中所述噴嘴中的至少兩者可包含不同幾何形狀。

3.根據權利要求2所述的設備，其中所述不同幾何形狀包含不同節流閥直徑、不同排出口直徑、不同橫截面形狀、不同孔角、不同壁角、距所述襯底的不同排出口距離以及相對于所述噴嘴或所述襯底的移動方向的不同前緣中的至少一者。

4.根據權利要求2所述的設備，其中所述噴嘴中的所述至少兩者包含不同橫截面形狀。

5.根據權利要求2所述的設備，其中所述至少兩個噴嘴包含不同節流閥直徑。

6.根據權利要求2所述的設備，其中所述至少兩個噴嘴包含不同排出口直徑。

7.根據權利要求2所述的設備，其中所述至少兩個噴嘴包含兩個或兩個以上相對較小的噴嘴以及一相對較大的噴嘴，所述相對較小的噴嘴安置為鄰近于所述相對較大的噴嘴。

8.根據權利要求2所述的設備，其中所述至少兩個噴嘴包含不同孔角。

9.根據權利要求2所述的設備，其中所述至少兩個噴嘴包含不同壁角。

10.根據權利要求2所述的設備，其中所述至少兩個噴嘴包含距所述襯底的不同排出口距離。

11.根據權利要求2所述的設備，其中所述至少兩個噴嘴包含相對于所述噴嘴或所述襯底的所述移動方向的不同前緣。

12.根據權利要求2所述的設備，其中所述設備經配置以使得所述載氣和所述材料以不同流動速率從所述噴嘴中的所述至少兩者噴射。

13.根據權利要求2所述的設備，其中所述噴嘴中的所述至少兩者連接到不同載氣源。

14.根據權利要求2所述的設備，其中所述噴嘴中的所述至少兩者經布置以使得所述材料從所述噴嘴中的所述至少兩者以至少部分重疊的圖案沉積。

15.一種將薄膜沉積在襯底上的方法，其包括：

在使多個噴嘴或襯底相對于彼此移動的同時，從所述噴嘴噴射載氣和材料，

以包含多個橫向間隔元件的圖案在所述襯底上沉積所述材料，所述元件中的每一者由所述多個噴嘴的單獨噴嘴群組沉積，

其中所述橫向間隔元件中的至少一者包含第一寬度，且

沉積所述橫向間隔元件中的所述至少一者的所述噴嘴群組中的所述噴嘴中的至少一者經配置以用小于所述第一寬度的第二寬度在所述襯底上沉積所述材料。