[發明專利]一種磁體表面處理方法無效
| 申請號： | 201310375759.3 | 申請日： | 2013-08-26 |
| 公開（公告）號： | CN104419939A | 公開（公告）日： | 2015-03-18 |
| 發明（設計）人： | 薛慧力;姜兵;金國順;孫其會 | 申請（專利權）人： | 北京中科三環高技術股份有限公司 |
| 主分類號： | C23G1/02 | 分類號： | C23G1/02 |
| 代理公司： | 北京航忱知識產權代理事務所(普通合伙) 11377 | 代理人： | 陳立航;郭紅燕 |
| 地址： | 100190 北京市海淀區中*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 磁體 表面 處理 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種磁體表面處理方法，包括：
對待處理磁體進行預處理的步驟；
使用酸洗液去除所述待處理磁體上缺陷層的步驟。
2.根據權利要求1所述的磁體表面處理方法，其特征在于，所述酸洗液由硝酸和水混合而成，
用所述酸洗液酸洗所述待處理磁體，然后在水中超聲清洗所述待處理磁體，重復上述過程至少兩次。
3.根據權利要求2所述的磁體表面處理方法，其特征在于，所述酸洗液中硝酸的濃度為10～150ml/L，用所述酸洗液酸洗所述待處理磁體，每次時間為10～100S，在水中超聲清洗所述待處理磁體，每次時間為10～100S。
4.根據權利要求3所述的磁體表面處理方法，其特征在于，所述硝酸的濃度為40ml/L。
5.根據權利要求3所述的磁體表面處理方法，其特征在于，所述硝酸的濃度為50ml/L。
6.根據權利要求1所述的磁體表面處理方法，其特征在于，還包括在磁體表面鍍保護層的步驟，所述在磁體表面鍍保護層的步驟在所述使用酸洗液去除待處理磁體上缺陷層的步驟之后進行。
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