[發明專利]用于確定過程參數的測量裝置

在審

• 申請號: 201310374177.3
• 申請日: 2013-06-26
• 公開（公告）號: CN103512612A
• 公開（公告）日: 2014-01-15
• 發明（設計）人: W·巴貝爾
• 申請（專利權）人: 克羅內分析學有限責任公司
• 主分類號: G01D21/02
• 分類號: G01D21/02;G01D11/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 陳浩然;楊國治

1.一種用于確定至少一個過程參數的測量裝置(1)，尤其用于液體和／或氣體分析，其帶有用于測量所述過程參數的至少一個傳感元件(2)和至少一個電子部件(3)，其中，所述傳感元件(2)經由至少一個電導體(4)與所述電子部件(3)相連接，其中，設置有至少部分地布置在所述傳感元件(2)與所述電子部件(3)之間的至少一個適配器單元(5)，并且其中，所述適配器單元(5)至少逐段地引導至少一個所述電導體(4)并且規定所述傳感元件(2)與所述電子部件(3)之間的最小間距，其特征在于，所述傳感元件(2)在面向所述電子部件(3)的端部處具有尤其柱狀的部段(10)，其相對所述電子部件(3)的端部的殘余物突出，所述適配器單元(5)在面向所述傳感元件(2)的端部處具有止動面(7)并且所述止動面(7)貼靠在所述部段(10)上和／或圍繞所述部段(10)貼靠。

2.根據權利要求1所述的測量裝置(1)，其特征在于，所述止動面(7)設計為接片，其貼靠在所述傳感元件(2)的部段(10)上。

3.根據權利要求1所述的測量裝置(1)，其特征在于，所述止動面(7)設計為尤其部分圓形的弧形元件，其圍繞所述傳感元件(2)的部段(10)貼靠。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的測量裝置(1)，其特征在于，所述適配器單元(5)為了引導至少一個所述電導體(4)具有尤其以洞或孔的形式的連續的至少一個凹槽(6)。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的測量裝置(1)，其特征在于，所述適配器單元(5)在面向所述傳感元件(2)或所述電子部件(3)的至少一個端部處設計成使得在所述適配器單元(5)與所述傳感元件(2)之間或在所述適配器單元(5)與所述電子部件(3)之間至少部分地產生形狀配合。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的測量裝置(1)，其特征在于，所述電子部件(3)布置在尤其至少部分澆注的子部件(8)中。

7.根據權利要求6所述的測量裝置(1)，其特征在于，設置有至少一個罩殼(9)，所述罩殼(9)至少部分地包圍至少所述傳感元件(2)并且所述罩殼(9)能夠與所述子部件(8)尤其經由旋轉運動連接。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的測量裝置(1)，其特征在于，尤其以銷的形式的至少一個所述電導體(4)鄰接到所述傳感元件(2)的端部處或者到所述電子部件(3)的端部處。

9.根據權利要求1至8中任一項所述的測量裝置(1)，其特征在于，所述傳感元件(2)用于測量pH值和／或氯含量和／或氧含量。