[發明專利]具薄膜的基材單元的制法及具薄膜的基材單元

有效

• 申請號: 201310373234.6
• 申請日: 2013-08-23
• 公開（公告）號: CN104418589A
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發明（設計）人: 張錫薰
• 申請（專利權）人: 張錫薰
• 主分類號: C04B35/00
• 分類號: C04B35/00;C04B35/622;C04B41/81
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 梁揮;鮑俊萍

1.一種具薄膜的基材單元的制法，其特征在于，其包括有：

制備塑泥前產物：以一種以上的塑泥微米粉末以及一種以上的塑泥納米粉末混合，制備成塑泥前產物，其中，塑泥微米粉末與塑泥納米粉末各占塑泥前產物的重量百分率10%至90%；

攪拌混合：加入占塑泥前產物重量百分率40%至60%的水，并與塑泥前產物充分攪拌形成塑泥；

輥壓整平：將塑泥以輥輪加壓整平；

模具塑形：將整平后的塑泥置入模具內塑形；

基材成型：將模具塑形后的塑泥，置入烤爐內以80℃至2100℃的溫度進行燒結以形成基材；

制備薄膜前產物：以一種以上微米或納米粉末的散熱薄膜材料或是一種以上微米或納米粉末的導電薄膜材料，混合穩定劑以及稀釋溶劑而成薄膜前產物，其中，穩定劑為散熱薄膜材料或導電薄膜材料總重量的3%至10%，稀釋溶劑至少為散熱薄膜材料或導電薄膜材料總重量的250%；

薄膜噴霧：將薄膜前產物以噴嘴配合氣相噴霧的方式噴入氣體抽取設備，再以氣體抽取設備將微米以下的氣體粒子狀態的薄膜前產物均勻附著于基材表面；

薄膜成型：將表面噴涂薄膜前產物的基材，置入烤爐內以80℃至1600℃的溫度進行燒結以形成薄膜。

2.根據權利要求1所述的具薄膜的基材單元的制法，其特征在于，塑泥微米粉末以及塑泥納米粉末為天然礦石、氧化物、氮化物、碳化物或是硫化物。

3.根據權利要求1或2所述的具薄膜的基材單元的制法，其特征在于，微米或納米粉末的散熱薄膜材料為天然礦石粉、金屬粉、氧化物粉、氮化硅粉或是碳化硅粉，稀釋溶劑為薄膜材料總重量的250%至350%。

4.根據權利要求1或2所述的具薄膜的基材單元的制法，其特征在于，微米或納米粉末的導電薄膜材料為天然礦石粉或金屬粉，稀釋溶劑為薄膜材料總重量的250%至450%。

5.一種具薄膜的基材單元，其特征在于，其包括：

一基材；以及

一薄膜，其是以權利要求1所述的制法結合于該基材的表面，且成分為天然礦石粉、金屬粉、氧化物粉、氮化物粉或是碳化物粉。

6.根據權利要求5所述的具薄膜的基材單元，其特征在于，該基材的成分為天然礦石、氧化物、氮化物、碳化物或是硫化物。

7.一種具薄膜的基材單元，其特征在于，其包括：

一基材；以及

一薄膜，其是以權利要求1所述的制法結合于該基材的表面，且成分為天然礦石粉或是金屬粉。

8.根據權利要求7所述的具薄膜的基材單元，其特征在于，該基材的成分為天然礦石、氧化物、氮化物、碳化物或是硫化物。