[發明專利]曝光裝置、控制曝光裝置的方法和用于曝光的對齊方法在審
| 申請號: | 201310364831.2 | 申請日: | 2013-08-20 |
| 公開(公告)號: | CN103869631A | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發明(設計)人: | 全鎮弘;李石柱;延政勳 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204 | 代理人: | 余朦;楊莘 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 裝置 控制 方法 用于 對齊 | ||
相關申請的交叉引用
本申請要求于2012年12月14日向韓國專利局遞交的第10-2012-0146637號韓國專利申請的優先權,該韓國專利申請的全部公開內容通過引用并入本文。
技術領域
公開的技術涉及用于薄膜沉積的曝光裝置、控制曝光裝置的方法、以及用于曝光的對齊方法,更具體地,涉及使用反饋回路更精確地控制裝置的部件移動的位置并且由此精確地校準薄膜的圖案化。
背景技術
在一般的薄膜曝光裝置中,從光源發出的光照射到掩膜上,穿過在掩膜中圖案化的開口,然后入射到基板上。這樣,光以掩膜中圖案化的開口的相應形狀照射到基板的預設區域。
在上述的曝光過程中,為了以掩膜中圖案化的開口的相應形狀精確地曝光基板的預設區域,掩膜或基板的對齊是重點關注的問題。
例如,典型的工藝是激光熱轉印(LITI)工藝,在LITI工藝中,從光源發出的激光束穿過掩膜并且使用掩膜成形。成形的激光束到達供體膜以將特定量的有機或無極材料作為薄膜層轉印至基板。在LITI工藝被初始化之前,激光束應該被精確地對齊以入射到形成有例如薄膜晶體管(TFT)的基板的預設區域(例如,特定的子像素區域)。這是因為如果激光束具有非預期的形狀或者照射到基板的非預期的區域則會產生有缺陷的電子產品。
因此,由于掩膜的對齊和與激光束的形狀相關的用于薄膜沉積(例如,TFT)的區域的位置被預先設置,激光束照射的區域所在的基板的對齊是至關重要的。
然而,在傳統的薄膜曝光系統中,當曝光重復執行時,例如由于老化效應和熱效應,曝光裝置的曝光的精確度降低。也就是說,由于驅動單元因外界環境條件隨時間變化而老化并且光源(典型地激光束)的位置因從曝光過程產生的熱而變化,所以引入了曝光圖案的位置誤差。
發明內容
公開的技術提供了曝光裝置、控制曝光裝置的方法和用于曝光的對齊方法,該曝光裝置能夠防止因例如老化效應或熱效應引起的曝光裝置的曝光精確度的降低。然而,公開的技術不限于此。
根據本發明的一方面,提供了一種曝光裝置,包括:主臺,被配置為調整基板的位置;光束照射單元,被配置為將光束照射到掩膜上;以及光束監視單元,具有相對于所述主臺固定的位置,并且被配置為識別從所述光束照射單元發出且穿過所述掩膜中的開口以形成特定圖案的光束。
所述曝光裝置還包括控制單元,所述控制單元被配置為輸出表示所述主臺的位置的基板位置調整信號以調整所述基板的位置。
所述控制單元可基于與所述光束監視單元獲得的光束有關的信息,輸出所述基板位置調整信號。更詳細地,所述控制單元被配置為檢查入射到所述光束監視單元的光束的被監視位置,其中所述被監視位置是基于與所述光束監視單元獲得的光束有關的信息,所述控制單元基于所述被監視位置與預設參考位置之間的差別,輸出所述基板位置調整信號。
從所述控制單元輸出的所述基板位置調整信號包括:第一位置調整信號,用于允許所述基板的對齊鍵相對于所述光束照射單元被設置在預設對齊位置;以及第二位置調整信號,對應于具有作為起點的所述預設參考位置且具有作為終點的所述被監視位置的調整向量。
可選地,所述曝光裝置還包括對齊鍵監視單元,所述對齊鍵監視單元被配置為獲得與所述基板的對齊鍵的位置有關的信息,從所述控制單元輸出的所述基板位置調整信號對應于具有作為起點的、由所述對齊鍵監視單元獲得的所述基板的對齊鍵的被檢測位置且具有作為終點的、相對于所述光束照射單元的所述預設對齊位置的基向量和具有作為起點的所述預設參考位置且具有作為終點的所述被監視位置的調整向量之和。
所述的光裝置還包括用于調整所述掩膜的位置的掩膜臺,所述控制單元輸出表示所述掩膜臺的位置的掩膜位置調整信號,以基于與所述光束監視單元獲得的光束有關的信息調整所述掩膜的位置。在這種情況下,所述控制單元被配置為基于與所述光束監視單元獲得的光束有關的信息,檢查入射到所述光束監視單元的光束的被監視位置,并且所述控制單元基于所述被監視位置與預設參考位置之間的差別,輸出所述掩膜位置調整信號。
所述曝光裝置還包括對齊鍵監視單元,所述對齊鍵監視單元被配置為獲得與所述基板的對齊鍵的位置有關的信息,所述控制單元輸出被配置為對所述對齊鍵監視單元的位置進行調整的對齊鍵監視單元位置調整信號。在這種情況下,所述控制單元基于與由所述光束監視單元獲得的光束有關的信息輸出所述對齊鍵監視單元位置調整信號。
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