[發(fā)明專利]曝光裝置、控制曝光裝置的方法和用于曝光的對齊方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201310364831.2
• 申請日: 2013-08-20
• 公開（公告）號: CN103869631A
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 全鎮(zhèn)弘;李石柱;延政勳
• 申請（專利權(quán)）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11204
• 代理人: 余朦;楊莘

1.一種曝光裝置，包括：

主臺，被配置為調(diào)整基板的位置；

光束照射單元，被配置為將光束照射到掩膜上；以及

光束監(jiān)視單元，具有相對于所述主臺固定的位置，并且被配置為識別從所述光束照射單元發(fā)出且穿過所述掩膜中的開口以形成特定圖案的光束。

2.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置，還包括控制單元，所述控制單元被配置為輸出表示所述主臺的位置的基板位置調(diào)整信號以調(diào)整所述基板的位置。

3.如權(quán)利要求2所述的曝光裝置，其中，所述控制單元基于與所述光束監(jiān)視單元獲得的光束有關(guān)的信息，輸出所述基板位置調(diào)整信號。

4.如權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其中，所述控制單元被配置為檢查入射到所述光束監(jiān)視單元的光束的被監(jiān)視位置，其中所述被監(jiān)視位置是基于與所述光束監(jiān)視單元獲得的光束有關(guān)的信息，所述控制單元基于所述被監(jiān)視位置與預(yù)設(shè)參考位置之間的差別，輸出所述基板位置調(diào)整信號。

5.如權(quán)利要求4所述的曝光裝置，其中，從所述控制單元輸出的所述基板位置調(diào)整信號包括：

第一位置調(diào)整信號，用于允許所述基板的對齊鍵相對于所述光束照射單元被設(shè)置在預(yù)設(shè)對齊位置；以及

第二位置調(diào)整信號，對應(yīng)于以所述預(yù)設(shè)參考位置為起點以及以所述被監(jiān)視位置為終點的調(diào)整向量。

6.如權(quán)利要求4所述的曝光裝置，還包括對齊鍵監(jiān)視單元，所述對齊鍵監(jiān)視單元被配置為獲得與所述基板的對齊鍵的位置有關(guān)的信息，其中，從所述控制單元輸出的所述基板位置調(diào)整信號對應(yīng)于基向量與調(diào)整向量之和，所述基向量以所述對齊鍵監(jiān)視單元獲得的所述基板的對齊鍵的被檢測位置作為起點，以相對于所述光束照射單元的所述預(yù)設(shè)對齊位置作為終點，所述調(diào)整向量以所述預(yù)設(shè)參考位置作為起點，以所述被監(jiān)視位置作為終點。

7.如權(quán)利要求2所述的曝光裝置，還包括用于調(diào)整所述掩膜的位置的掩膜臺，其中，所述控制單元輸出表示所述掩膜臺的位置的掩膜位置調(diào)整信號，以基于與所述光束監(jiān)視單元獲得的光束有關(guān)的信息調(diào)整所述掩膜的位置。

8.如權(quán)利要求7所述的曝光裝置，其中，所述控制單元被配置為基于與所述光束監(jiān)視單元獲得的光束有關(guān)的信息，檢查入射到所述光束監(jiān)視單元的光束的被監(jiān)視位置，并且所述控制單元基于所述被監(jiān)視位置與預(yù)設(shè)參考位置之間的差別，輸出所述掩膜位置調(diào)整信號。

9.如權(quán)利要求2所述的曝光裝置，還包括對齊鍵監(jiān)視單元，所述對齊鍵監(jiān)視單元被配置為獲得與所述基板的對齊鍵的位置有關(guān)的信息，所述控制單元輸出被配置為對所述對齊鍵監(jiān)視單元的位置進行調(diào)整的對齊鍵監(jiān)視單元位置調(diào)整信號。

10.如權(quán)利要求9所述的曝光裝置，其中，所述控制單元基于與所述光束監(jiān)視單元獲得的光束有關(guān)的信息，輸出所述對齊鍵監(jiān)視單元位置調(diào)整信號。

11.如權(quán)利要求10所述的曝光裝置，其中，所述控制單元被配置為基于與所述光束監(jiān)視單元獲得的光束有關(guān)的信息，檢查入射到所述光束監(jiān)視單元的光束的被監(jiān)視位置，并且所述控制單元基于所述被監(jiān)視位置與預(yù)設(shè)參考位置之間的差別，輸出所述對齊鍵監(jiān)視單元位置調(diào)整信號。

12.如權(quán)利要求11所述的曝光裝置，其中，從所述控制單元輸出的所述對齊鍵監(jiān)視單元位置調(diào)整信號對應(yīng)于以所述預(yù)設(shè)參考位置為起點且以所述被監(jiān)視位置為終點的調(diào)整向量。

13.一種控制曝光裝置的方法，所述方法包括：

通過具有相對于主臺固定的位置的光束監(jiān)視單元，獲得與從光束照射單元發(fā)出且穿過掩膜中的開口以形成特定圖案的光束有關(guān)的信息；

基于與所述光束監(jiān)視單元獲得的光束有關(guān)的信息，檢查入射到所述光束監(jiān)視單元的光束的被監(jiān)視位置，并且檢查所述被監(jiān)視位置與預(yù)設(shè)參考位置之間的差別；

將基板安裝在所述主臺上或安裝在具有能夠由所述主臺調(diào)整的位置的基板安裝單元上；以及

通過基于所述被監(jiān)視位置與所述預(yù)設(shè)參考位置之間的差別輸出基板位置調(diào)整信號，調(diào)整所述基板的位置。

14.如權(quán)利要求13所述的方法，其中，調(diào)整所述基板的位置包括：

允許所述基板的對齊鍵相對于所述光束照射單元被設(shè)置在預(yù)設(shè)對齊位置；以及

通過以所述預(yù)設(shè)參考位置為起點且以所述被監(jiān)視位置為終點的調(diào)整向量，附加地調(diào)整所述基板的位置。