[發明專利]基板處理裝置

有效

• 申請號: 201310364328.7
• 申請日: 2013-08-20
• 公開（公告）號: CN103633000A
• 公開（公告）日: 2014-03-12
• 發明（設計）人: 末吉秀樹;宮迫久顯;荻原潔;濱田崇廣
• 申請（專利權）人: 芝浦機械電子株式會社
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677;H01L21/66;H01L21/67;H01L21/68
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 胡建新;樸勇

1.一種基板處理裝置，具有檢測是否有傳送的基板的基板檢測裝置，其特征在于，

上述基板檢測裝置具備：

基部；

擺動部件，被安裝為相對于上述基部擺動自如；

檢測輥，設置在上述擺動部件的一端部，與所傳送的上述基板相碰；

配重及磁鐵，設置在上述擺動部件的另一端部；

檢測傳感器，若所傳送的上述基板按下上述檢測輥，從而上述擺動部件從上述基板與上述檢測輥相碰前的上述擺動部件的初始位置向旋轉方向旋轉，則檢測出上述磁鐵所產生的磁場的變化，并輸出表示檢測到上述基板的檢測信號；以及

擺動制動器，在上述擺動部件的初始位置，將上述擺動部件保持成相對于與上述基板的傳送方向交叉的垂直線傾斜。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述擺動部件具有沿著上述垂直線形成的第1部分、以及從上述第1部分相對于上述垂直線向上述旋轉方向側傾斜地形成的第2部分，

上述檢測輥設置在上述第2部分的端部，

上述配重及上述磁鐵設置在上述第1部分的端部。

3.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述擺動制動器將上述第1部分保持為相對于上述垂直線傾斜。

4.根據權利要求2或3所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述配重具有追加配重，該追加配重用于在上述擺動部件的初始位置使上述擺動部件向上述擺動制動器側推靠。

5.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述擺動部件被設置成能夠以擺動支點部件為中心擺動，

上述檢測輥通過安裝軸部設置在上述擺動部件的一端部，

上述安裝軸部與上述擺動支點部件之間的距離被設定為，比上述擺動支點部件與上述磁鐵之間的距離短。

6.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述擺動制動器將上述擺動部件保持為在30度到50度的范圍內相對于上述垂直線傾斜。