[發明專利]包含酰胺組分的光致抗蝕劑

有效

• 申請號: 201310364299.4
• 申請日: 2013-06-25
• 公開（公告）號: CN103513514B
• 公開（公告）日: 2018-12-28
• 發明（設計）人: 劉驄;C·吳;G·珀勒斯;G·P·普羅科普維茨;李明琦;C-B·徐
• 申請（專利權）人: 羅門哈斯電子材料有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/039;G03F7/20
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 江磊

提供了一種新穎的光致抗蝕劑組合物，該組合物包含一種組分，所述組分含有酰胺基團和多個羥基。優選地，本發明的光致抗蝕劑可以包含：具有光生酸不穩定性基團的樹脂；光致產酸劑化合物；以及酰胺組分，所述酰胺組分包含多個羥基，可以用來減少光致酸從光致抗蝕劑涂層未曝光的區域擴散到外部的不利現象。

技術領域

本發明涉及包含含有兩個或更多個羥基的酰胺組分的光致抗蝕劑組合物。本發明優選的光致抗蝕劑可以包含具有光致酸不穩定基團的樹脂；光致產酸劑化合物；和含有多個羥基基團的酰胺組分，其能減少光致產酸從光致抗蝕涂層的未曝光區域中向外不希望的擴散。

背景技術

光致抗蝕劑是用來將圖像轉移基材上的光敏膜。它們形成負性或正性圖案。基材上涂覆光致抗蝕劑后，通過具有圖案的光掩模將涂層在活化能量源，例如紫外光，下曝光，在所述光致抗蝕涂層中形成潛像。所述光掩模具有對于活化輻射不透明和透明的區域從而確定了將要轉移到下方的基材的所需要的圖像。

已知的光致抗蝕劑能夠提供足以滿足很多現有的商業應用的分辨度和尺寸特征。然而對于許多其它應用而言，需要能夠提供具有小于四分之一微米(<0.25μm)尺寸的高分辨圖像的新型光致抗蝕劑。

人們已經進行了各種嘗試來改變光致抗蝕劑組合物的構成以改善功能性特性。其中，已經報道了多種堿性化合物用于光致抗蝕劑組合物中。參見，例如，美國專利第6,486,058，6,607,870和7,379,548號，以及日本公開專利JP 1103086和1231538。也可參見US2011/0223535和US 2012/0077120。

發明內容

本發明提供一種光致抗蝕劑組合物，其包含樹脂、光致產酸劑化合物(光致產酸劑或“PAG”)，和含有酰胺的化合物，該化合物包含i)酰胺基；和ii)兩個或更多個羥基。

具體實施方式

優選的酰胺化合物可以用作光致抗蝕劑組合物涂層的光刻過程中的光致酸擴散控制劑。相對于其它的類似的不含有酰胺化合物的抗蝕劑的浮雕圖像，包括酰胺化合物的抗蝕劑的浮雕圖象的分辨率得到改善，以此來對此類擴散控制進行合適的評估。

優選的酰胺化合物也可能包含多于兩個羥基，例如3，5，6或更多的羥基。通常優選的酰胺化合物可以包括2，3，或4個羥基。

優選的酰胺化合物可包含各種結構的羥基取代形式，包括伯醇和/或仲醇部分。也可以存在叔羥基部分。

優選的酰胺化合物包括那些含有單個酰胺基團的化合物(即一個酰胺基團的全部)。在某些其它實施方式中，用于光致抗蝕劑組合物的酰胺化合物將含有多于一個酰胺基。

優選的酰胺化合物也包括那些不含有氨基甲酸鹽/酯基團的化合物。另外的優選的酰胺化合物包括不含光致酸不穩定基團的那些，所述光致酸不穩定基團包括例如光致酸不穩定的酯，氨基甲酸鹽/酯和/或乙縮醛基。

在某些方面，這里公開的用于光致抗蝕劑組合物的酰胺化合物含有單個酰胺部分，不含氨基甲酸鹽/酯基團和/或不含光致酸不穩定的基團。

優選的酰胺化合物也可以包含除羥基之外的其它基團，例如鹵素(F、Cl、Br、和/或I,特別是F)；氰基，羧基(-COOH)，酯(例如-COOR，其中R是C_1－12烷基)。能夠與光致酸絡合的極性官能團，例如氰基和羧基常常是特別地優選的。

在某些優選的方面，酰胺化合物對應于下列結構式I：

其中R1，R2和R3各自獨立地是氫或非-氫取代基；R1，R2和R3總體來說包括兩個或更多個羥基。