[發明專利]包含酰胺組分的光致抗蝕劑有效
| 申請號： | 201310364299.4 | 申請日： | 2013-06-25 |
| 公開（公告）號： | CN103513514B | 公開（公告）日： | 2018-12-28 |
| 發明（設計）人： | 劉驄;C·吳;G·珀勒斯;G·P·普羅科普維茨;李明琦;C-B·徐 | 申請（專利權）人： | 羅門哈斯電子材料有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/004 | 分類號： | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 江磊 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 包含 組分 光致抗蝕劑 | ||
【權利要求書】：
1.一種光致抗蝕劑組合物，其包含：
(a)樹脂；
(b)光致產酸劑化合物；和
(c)一種酰胺化合物，其包含i)一個酰胺基團和ii)兩個、三個、四個、五個或六個羥基；
其中所述的酰胺化合物符合下述化學式(I)所示的結構：
R1是任選被羥基取代的(C1-C30)烷基，R2和R3獨立地為氫或任選被羥基取代的(C1-C30)烷基，R1，R2和R3總體包括兩個、三個、四個、五個或六個羥基。
2.根據權利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述的酰胺化合物包含三個或四個羥基。
3.根據權利要求1至2中任意一項所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述的酰胺化合物包含至少一個伯羥基。
4.根據權利要求1至2中任意一項所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述的酰胺化合物包含至少一個仲羥基。
5.根據權利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述的酰胺化合物包括一種或多種下述化合物：
6.一種形成光致抗蝕劑浮雕圖像的方法，該方法包括：
(a)將權利要求1至5中任意一項所述的抗蝕劑組合物的涂層施涂到基材上；
(b)將光致抗蝕涂層曝光于圖案化的活化輻射中并使曝光后的光致抗蝕劑層顯影以提供一個浮雕圖象。
7.根據權利要求6的方法，其中所述的光致抗蝕劑涂層被浸沒式曝光。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于羅門哈斯電子材料有限公司，未經羅門哈斯電子材料有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310364299.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種極紫外光刻機光源中液滴靶空間位置的監控系統
- 下一篇：下肢康復振動器
