[發(fā)明專(zhuān)利]自移動(dòng)裝置有效
申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310362569.8 | 申請(qǐng)日: | 2013-08-20 |
公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104414570B | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-08-15 |
發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馮勇兵 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 科沃斯機(jī)器人股份有限公司 |
主分類(lèi)號(hào): | A47L1/02 | 分類(lèi)號(hào): | A47L1/02 |
代理公司: | 北京信慧永光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11290 | 代理人: | 姚垚,張榮彥 |
地址: | 215168 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 移動(dòng) 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種帶有真空吸盤(pán)的自移動(dòng)裝置,例如自移動(dòng)擦玻璃機(jī)器人,屬于日用小家電技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)的自移動(dòng)擦玻璃機(jī)器人,通過(guò)吸附單元吸附在玻璃上,借助于行走單元在玻璃面上行走。常見(jiàn)的吸附單元包含固定在擦玻璃機(jī)器人底部的吸盤(pán)。當(dāng)擦玻璃機(jī)器人工作時(shí),真空源對(duì)吸盤(pán)連續(xù)抽氣,使吸盤(pán)與玻璃之間的空腔形成負(fù)壓室,大氣與負(fù)壓室之間的壓強(qiáng)差所產(chǎn)生的壓力作用于擦玻璃機(jī)器人的吸盤(pán)上,從而將擦玻璃機(jī)器人壓抵吸附在玻璃上。
例如申請(qǐng)?zhí)枮?01210097695.0的中國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng),公開(kāi)一種具有吸附裝置的擦玻璃裝置,如圖1所示,該擦玻璃裝置的吸盤(pán)A包括相互連接的頂部1和側(cè)部2,頂部1與擦玻璃裝置的底座連接,側(cè)部2用于密封玻璃表面C,側(cè)部2固定于頂部1,并且側(cè)部2的外壁與頂部1的外邊緣相平齊。將擦玻璃裝置放置在玻璃表面上之后,行走單元20與玻璃表面C之間存在一定間隙d。真空源開(kāi)始工作后,負(fù)壓室4內(nèi)真空度逐漸增大,吸盤(pán)A在壓強(qiáng)差的作用下產(chǎn)生變形。吸盤(pán)A對(duì)玻璃表面的吸附力隨著負(fù)壓室4內(nèi)真空度逐漸增加而增大。其中,真空吸盤(pán)的吸附力,在數(shù)值上等于負(fù)壓室內(nèi)與外界之間存在的壓強(qiáng)差將吸盤(pán)壓在玻璃表面的壓力,方向垂直指向玻璃表面。當(dāng)吸盤(pán)A變形到一定程度后,行走單元20便與玻璃表面C相接觸。行走單元20一旦與玻璃表面C相接觸,將阻止吸盤(pán)繼續(xù)變形。即在行走單元20與玻璃表面C接觸后,吸盤(pán)的形狀將維持不變,吸盤(pán)對(duì)玻璃表面C的壓力也將不再增加。此后,隨著負(fù)壓室內(nèi)真空度增大,雖然氣壓差作用于擦玻璃裝置底座的壓力繼續(xù)增加,但所增加的力將完全施加于行走單元20。換句話(huà)說(shuō),在行走單元20接觸玻璃表面C以后,吸盤(pán)對(duì)玻璃表面的壓力將不隨負(fù)壓室內(nèi)真空度增加而增大,該壓力將維持在行走單元20與玻璃表面C接觸時(shí)的數(shù)值不變(見(jiàn)圖8中的曲線(xiàn)a),由此造成吸盤(pán)的吸附力不能隨負(fù)壓室內(nèi)真空度增加而繼續(xù)增大。由于吸盤(pán)的吸附力較小,在擦玻璃裝置工作過(guò)程中,存在從玻璃表面跌落的危險(xiǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種自移動(dòng)裝置,該自移動(dòng)裝置的真空吸盤(pán)對(duì)吸附物表面的吸附力不受行走單元接觸到吸附物表面的影響,始終能夠隨著負(fù)壓室內(nèi)真空度的增加而增大,從而減小了自移動(dòng)裝置作業(yè)過(guò)程中跌落的危險(xiǎn)。
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是通過(guò)如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種自移動(dòng)裝置,包括一底座,底座上設(shè)有真空吸盤(pán)、行走單元和功能單元,所述真空吸盤(pán)包括一側(cè)部,側(cè)部固定于底座,并支撐于一吸附物表面上,底座、側(cè)部與吸附物表面之間形成一與真空源相連的負(fù)壓室,在垂直于吸附物表面的方向上,所述真空吸盤(pán)與所述底座之間能夠發(fā)生相對(duì)位移,隨著負(fù)壓室內(nèi)壓強(qiáng)逐漸下降,外界大氣壓與負(fù)壓室內(nèi)的壓強(qiáng)差將自移動(dòng)裝置壓向吸附物表面,隨后使負(fù)壓室維持在一定的形狀,真空吸盤(pán)包括有一沿真空吸盤(pán)徑向外延的裙部,裙部的外端與吸附物表面密封,其另一端直接或間接地與底座柔性連接;其中,裙部?jī)?nèi)壁所受壓強(qiáng)與負(fù)壓室內(nèi)壓強(qiáng)相同,外壁受大氣壓強(qiáng),裙部?jī)?nèi)、外壁存在的氣壓差將該裙部壓向吸附物表面,無(wú)論行走單元與吸附物表面是否相接觸,該裙部對(duì)吸附物表面所產(chǎn)生的壓力都隨負(fù)壓室真空度的增加而增大。
作為另一種結(jié)構(gòu),所述真空吸盤(pán)還可以包括一頂部,側(cè)部通過(guò)頂部固定于底座,所述負(fù)壓室為頂部、側(cè)部與吸附物表面圍成的與真空源相連的密閉腔室。
較佳地,側(cè)部通過(guò)一柔性連接件連接于底座,側(cè)部與底座間隔設(shè)置,由所述側(cè)部構(gòu)成所述裙部。
優(yōu)選地,于側(cè)部外壁的近吸附物端還設(shè)有沿徑向外延的外延部,所述外延部貼附于吸附物表面上,所述裙部包括該外延部和所述側(cè)部。
本發(fā)明通過(guò)對(duì)吸盤(pán)結(jié)構(gòu)的改進(jìn),在真空吸盤(pán)上設(shè)置一沿徑向外延的裙部,裙部?jī)?nèi)、外壁存在的氣壓差將該裙部壓向吸附物表面,對(duì)吸附物表面所產(chǎn)生的壓力隨負(fù)壓室真空度的增加而增大,不受行走單元接觸吸附物表面的限制,從而減小了自移動(dòng)裝置作業(yè)過(guò)程中跌落的危險(xiǎn)。
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。
附圖說(shuō)明
圖1為現(xiàn)有吸盤(pán)的結(jié)構(gòu);
圖2為本發(fā)明整體結(jié)構(gòu)剖面示意圖;
圖3為本發(fā)明實(shí)施例一的真空吸盤(pán)剖面示意圖;
圖4為本發(fā)明實(shí)施例二的真空吸盤(pán)剖面示意圖;
圖5為本發(fā)明實(shí)施例三的真空吸盤(pán)剖面示意圖;
圖6為本發(fā)明實(shí)施例四的真空吸盤(pán)剖面示意圖;
圖7為本發(fā)明實(shí)施例五的真空吸盤(pán)結(jié)構(gòu)的剖面圖;
圖8為在本發(fā)明和現(xiàn)有技術(shù)中真空吸盤(pán)對(duì)吸附物表面的壓力隨負(fù)壓室內(nèi)真空度變化的曲線(xiàn)示意圖。
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