[發明專利]沉積裝置以及使用該裝置制造有機發光顯示器的方法在審
| 申請號: | 201310362008.8 | 申請日: | 2013-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN103710682A | 公開(公告)日: | 2014-04-09 |
| 發明(設計)人: | 李相信 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204 | 代理人: | 余朦;王艷春 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 沉積 裝置 以及 使用 制造 有機 發光 顯示器 方法 | ||
技術領域
本實施方式涉及沉積裝置以及使用該裝置制造有機發光(OLED)顯示器的方法。
背景技術
在顯示設備中,有機發光顯示器具有寬視角、優異的對比度和快的響應速度。因此,有機發光顯示器作為下一代顯示設備而備受矚目。
通常,有機發光顯示器具有將發光層插入到陽極與陰極之間以呈現色彩的結構。從陽極和陰極發射的空穴和電子在發光層中重新結合從而實現光發射。此外,為了提供更好的發光效率,可以選擇性地將中間層插入到各個電極與發光層之間,例如選擇性地將電子注入層(EIL)、電子傳輸層(ETL)、空穴傳輸層(HTL)和空穴注入層(HIL)插入到各個電極與發光層之間。
發明內容
實施方式涉及沉積裝置,包括:用于接收沉積材料的沉積源;和沿著第一方向設置在沉積源的一側以用于將沉積材料噴射到相對的基板上的多個噴嘴。沉積源包括中心區域和多個外側區域,其中外側區域位于中心區域在第一方向上的相應端部。多個噴嘴包括多個第一噴嘴,設置在所述多個外側區域并且從沉積源向外延伸,用于形成第一噴嘴的一端部的表面在第一方向上與基板表面形成第一傾斜角。
基板在第一方向上的中心可以與沉積源在第一方向上的中心對齊。沉積源的中心區域在第一方向上可以具有滿足如下條件的長度:
其中,L1為在第一方向上的中心區域的長度;L2為在第一方向上的基板的沉積區域長度;T為基板與噴嘴的一端部之間的距離;以及θ為入射角。
第一傾斜角可以在43至53度范圍內。
第一傾斜角可以在25至35度范圍內。
設置在中心區域的多個第二噴嘴可以在沉積源的外側方向上傾斜,從而使得用于形成各個第二噴嘴的端部的表面在第一方向上相對于基板表面具有第二傾斜角。第二傾斜角可以小于第一傾斜角。
在第一方向上,多個第一噴嘴相對于所述沉積源的中心被對稱地設置。
實施方式還涉及有機發光(OLED)顯示器的制造方法,包括:提供沉積裝置,其包括用于接納沉積材料的沉積源和沿著第一方向設置在沉積源的一側以用于將沉積材料噴射到基板上的多個噴嘴;將基板設置成與噴嘴相面對;以及當在與第一方向相交的第二方向上移動沉積源期間,通過噴嘴噴射沉積材料。沉積源包括中心區域和多個外側區域,其中外側區域位于中心區域在第一方向上的相應端部。多個噴嘴的多個第一噴嘴設置在各個外側區域,在第一方向上以第一傾斜角從沉積源噴射沉積材料。
第一噴嘴可以包括用于形成其一端部的表面,該表面相對于基板的表面在外側方向上傾斜,并且在第一方向上具有第一傾斜角。
基板在第一方向上的中心可以與沉積源在第一方向上的中心對齊。中心區域在第一方向上可以具有滿足如下條件的長度:
其中,L1為在第一方向上的中心區域的長度;L2為在第一方向上的基板的沉積區域長度;T為基板與噴嘴的一端部之間的距離;以及θ為入射角。
第一傾斜角可以在43至53度范圍內。
第一傾斜角可以在25至35度范圍內。
在第一方向上,第一噴嘴相對于沉積源的中心被對稱地設置。
第二噴嘴可以設置在中心區域并且可以在所述沉積源的外側方向上傾斜。形成第二噴嘴的一端部的表面在第一方向上相對于基板表面具有第二傾斜角。第二傾斜角可以小于第一傾斜角。
附圖說明
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于三星顯示有限公司,未經三星顯示有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310362008.8/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種蕾絲燈夾料送料機構
- 下一篇:一種滾壓鋼芯生產中的定位裝置
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





