[發(fā)明專利]沿掃描方向進(jìn)行均勻性補(bǔ)償裝置及利用該裝置進(jìn)行均勻性補(bǔ)償方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310349453.0 | 申請(qǐng)日: | 2013-08-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103412467A | 公開(公告)日: | 2013-11-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐珍華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中山新諾科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中山市科創(chuàng)專利代理有限公司 44211 | 代理人: | 鐘作亮 |
| 地址: | 528400 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 掃描 方向 進(jìn)行 均勻 補(bǔ)償 裝置 利用 方法 | ||
【技術(shù)領(lǐng)域】
本發(fā)明涉及一種沿掃描方向進(jìn)行均勻性補(bǔ)償裝置及利用該裝置進(jìn)行均勻性補(bǔ)償方法。?
【背景技術(shù)】
專利《一種采用灰度補(bǔ)償制提高光刻曝光能量均勻性的方法》,專利申請(qǐng)?zhí)枺?00810018928.7。在該方法中,需要空間光調(diào)制器對(duì)每個(gè)像素進(jìn)行相位或灰度的處理,還需要在垂直于光軸方向增加補(bǔ)償板,也需要對(duì)空間光調(diào)制器的各像面位置的光輸出進(jìn)行時(shí)間調(diào)制。增加了空間光調(diào)制器件的電路控制系統(tǒng)對(duì)數(shù)據(jù)處理的壓力。?
【發(fā)明內(nèi)容】
本發(fā)明目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種輕易提高光刻掃描曝光過程的均勻性,易于實(shí)現(xiàn),效果好的沿掃描方向進(jìn)行均勻性補(bǔ)償裝置。?
本發(fā)明另一目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種輕易提高光刻掃描曝光過程的均勻性,易于實(shí)現(xiàn),效果好的沿掃描方向進(jìn)行均勻性補(bǔ)償方法。?
本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:?
沿掃描方向進(jìn)行均勻性補(bǔ)償裝置,其特征在于包括使用空間光調(diào)制器作為圖形發(fā)生器的掃描式曝光系統(tǒng)和檢測(cè)掃描式曝光系統(tǒng)成像?后的沿X軸方向的一維光強(qiáng)度分布信息的光測(cè)器,還包括有處理光測(cè)器信號(hào)并通過相應(yīng)計(jì)算得到均勻性補(bǔ)償圖像的處理器,該處理器將計(jì)算得到的均勻性補(bǔ)償圖像加載到空間光調(diào)制器的掃描路徑上,使空間光調(diào)制器改變圖像的掃描路徑,從而改變沿掃描路徑的光強(qiáng)積分并實(shí)現(xiàn)整個(gè)圖形曝光區(qū)域的光能量一致。?
如上所述的沿掃描方向進(jìn)行均勻性補(bǔ)償裝置,其特征在于所述空間光調(diào)制器排列有像素開關(guān),在曝光掃描過程中,固定改變空間光調(diào)制器沿掃描路徑上部分像素的開關(guān)狀態(tài)即可改變沿掃描路徑的光強(qiáng)積分并實(shí)現(xiàn)整個(gè)圖形曝光區(qū)域的光能量一致。?
如上所述的沿掃描方向進(jìn)行均勻性補(bǔ)償裝置,其特征在于所述空間光調(diào)制器為單塊或多塊拼接掃描。?
如上所述的沿掃描方向進(jìn)行均勻性補(bǔ)償裝置,其特征在于所述檢測(cè)掃描式曝光系統(tǒng)的曝光過程是通過圖像掃描方式實(shí)現(xiàn)的,且掃描路徑是沿直線進(jìn)行的,其掃描方向是沿空間光調(diào)制器正掃描進(jìn)行,或者是沿空間光調(diào)制器以任意角度斜掃描進(jìn)行。?
如上所述的沿掃描方向進(jìn)行均勻性補(bǔ)償裝置,其特征在于所述檢測(cè)掃描式曝光系統(tǒng)包括有激光照明光源101、聚光系統(tǒng)102、反射系統(tǒng)103、空間光調(diào)制器104、成像系統(tǒng)105及目標(biāo)107;所述激光照明光源101經(jīng)過均勻化后,經(jīng)過聚光系統(tǒng)102,再經(jīng)過反射系統(tǒng)103,入射到空間光調(diào)制器104上,空間光調(diào)制器104將入射光調(diào)制后經(jīng)成像系統(tǒng)105成像在目標(biāo)107處。?
沿掃描方向進(jìn)行均勻性補(bǔ)償辦法,其特征在于包括有如下步驟:?
A、所述檢測(cè)掃描式曝光系統(tǒng)包括有激光照明光源101、聚光系統(tǒng)102、反射系統(tǒng)103、空間光調(diào)制器104、成像系統(tǒng)105及目標(biāo)107;所述激光照明光源101經(jīng)過均勻化后,經(jīng)過聚光系統(tǒng)102,再經(jīng)過反射系統(tǒng)103,入射到空間光調(diào)制器104上,空間光調(diào)制器104將入射光調(diào)制后經(jīng)成像系統(tǒng)105成像在目標(biāo)107處;之后,用光測(cè)試工具在目標(biāo)107處得到沿X方向的一維光強(qiáng)度分布信息P;?
B、將步驟A得到的光強(qiáng)分布信息P對(duì)圖像掃描路徑進(jìn)行平均化,設(shè)掃描路徑長度分布為S,計(jì)算方法如下:平均化后的功率分布P0=P/S;?
C、從光強(qiáng)分布值P中找到一個(gè)最小光強(qiáng)值Pmin;得到一組新的光強(qiáng)分布值Pt=P-Pmin,則補(bǔ)償分布結(jié)果K=Pt/P0,即K=(P-Pmin)×S/P,K表示的是沿掃描路徑方向,每列需要關(guān)閉的像素開關(guān)數(shù)量分布,即每列需要關(guān)閉的像素?cái)?shù);?
D、將K輸出到空間光調(diào)制器上,并且再次重復(fù)前面的步驟,將可以得到均勻性補(bǔ)償?shù)念A(yù)期效果。?
如上沿掃描方向進(jìn)行均勻性補(bǔ)償辦法,其特征在于所述光測(cè)試工具為對(duì)應(yīng)波長范圍的光積算器或光功率計(jì)等光能量測(cè)試儀器。?
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明有如下優(yōu)點(diǎn):?
本裝置是沿圖像的掃描路徑積分測(cè)量出各列光強(qiáng)積分值,再對(duì)列光強(qiáng)分布結(jié)果進(jìn)行曲線擬合,根據(jù)擬合結(jié)果,再使用空間光調(diào)制器,改變圖像的掃描路徑,從而改變沿掃描路徑積分的光強(qiáng)分布。該裝置處理既不需要在垂直于光軸方向增加任何補(bǔ)償板,也不需要對(duì)空間光?調(diào)制器的各像面位置光的輸出進(jìn)行時(shí)間調(diào)制。?
同時(shí),該裝置處理的是一維的光強(qiáng)分布結(jié)果,處理的數(shù)據(jù)量較一般方法降低了很多倍。因此,它能夠輕易的提高光刻掃描曝光過程的均勻性,又易于實(shí)現(xiàn),大大降低了光刻照明系統(tǒng)的設(shè)計(jì)及裝調(diào)難度。?
【附圖說明】
圖1是檢測(cè)掃描式曝光系統(tǒng)的示意圖。?
圖2是本發(fā)明各個(gè)光強(qiáng)分布示意圖。?
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
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