[發明專利]沿掃描方向進行均勻性補償裝置及利用該裝置進行均勻性補償方法

有效

• 申請號: 201310349453.0
• 申請日: 2013-08-12
• 公開（公告）號: CN103412467A
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發明（設計）人: 徐珍華
• 申請（專利權）人: 中山新諾科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中山市科創專利代理有限公司 44211
• 代理人: 鐘作亮

1.沿掃描方向進行均勻性補償裝置，其特征在于包括使用空間光調制器作為圖形發生器的掃描式曝光系統和檢測掃描式曝光系統成像后的沿X軸方向的一維光強度分布信息的光測器，還包括有處理光測器信號并通過相應計算得到均勻性補償圖像的處理器，該處理器將計算得到的均勻性補償圖像加載到空間光調制器的掃描路徑上，使空間光調制器改變圖像的掃描路徑，從而改變沿掃描路徑的光強積分并實現整個圖形曝光區域的光能量一致。

2.根據權利要求1所述的沿掃描方向進行均勻性補償裝置，其特征在于所述空間光調制器排列有像素開關，在曝光掃描過程中，固定改變空間光調制器沿掃描路徑上部分像素的開關狀態即可改變沿掃描路徑的光強積分并實現整個圖形曝光區域的光能量一致。

3.根據權利要求1或2所述的沿掃描方向進行均勻性補償裝置，其特征在于所述空間光調制器為單塊或多塊拼接掃描。

4.根據權利要求1或2所述的沿掃描方向進行均勻性補償裝置，其特征在于所述檢測掃描式曝光系統的曝光過程是通過圖像掃描方式實現的，且掃描路徑是沿直線進行的，其掃描方向是沿空間光調制器正掃描進行，或者是沿空間光調制器以任意角度斜掃描進行。

5.根據權利要求1或2所述的沿掃描方向進行均勻性補償裝置，其特征在于所述檢測掃描式曝光系統包括有激光照明光源（101）、聚光系統（102）、反射系統（103）、空間光調制器（104）、成像系統（105）及目標（107）；所述激光照明光源（101）經過均勻化后，經過聚光系統（102），再經過反射系統（103），入射到空間光調制器（104）上，空間光調制器（104）將入射光調制后經成像系統（105）成像在目標（107）處。

6.沿掃描方向進行均勻性補償辦法，其特征在于包括有如下步驟：

A、所述檢測掃描式曝光系統包括有激光照明光源（101）、聚光系統（102）、反射系統（103）、空間光調制器（104）、成像系統（105）及目標（107）；所述激光照明光源（101）經過均勻化后，經過聚光系統（102），再經過反射系統（103），入射到空間光調制器（104）上，空間光調制器（104）將入射光調制后經成像系統（105）成像在目標（107）處；之后，用光測試工具在目標（107）處得到沿X方向的一維光強度分布信息P；

B、將步驟A得到的光強分布信息P對圖像掃描路徑進行平均化，設掃描路徑長度分布為S，計算方法如下：平均化后的功率分布P0=P/S；

C、從光強分布值P中找到一個最小光強值Pmin；得到一組新的光強分布值Pt=P-Pmin，則補償分布結果K=Pt/P0,即K=(P-Pmin)×S/P，K表示的是沿掃描路徑方向，每列需要關閉的像素開關數量分布，即每列需要關閉的像素數；

D、將K輸出到空間光調制器上，并且再次重復前面的步驟，將可以得到均勻性補償的預期效果。

7.根據權利要求6沿掃描方向進行均勻性補償辦法，其特征在于所述光測試工具為對應波長范圍的光積算器或光功率計等光能量測試儀器。