[發明專利]一種用于對經過激光刻蝕清邊后TCO基板玻璃的清洗工藝

有效

• 申請號: 201310345734.9
• 申請日: 2013-08-09
• 公開（公告）號: CN104148312A
• 公開（公告）日: 2014-11-19
• 發明（設計）人: 李巖;李兆廷;朱華;郭婷婷
• 申請（專利權）人: 成都旭雙太陽能科技有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;H01L31/18
• 代理公司: 石家莊眾志華清知識產權事務所(特殊普通合伙) 13123
• 代理人: 王苑祥

技術領域

本發明屬于薄膜太陽能電池制造技術領域，涉及薄膜太陽能電池生產過程中的清洗工藝，具體地說是對進行第四次P4激光刻蝕清邊之后的透明TCO基板玻璃的清洗工藝。

背景技術

現有的非晶硅薄膜太陽能電池生產線上對進行第四次P4激光刻蝕清邊之后的透明TCO基板玻璃的清洗機都是沿用TFT生產線的清洗機，清洗工藝也是沿用TFT生產線的清洗工藝。薄膜太陽能電池在生產過程中，至少需要進行四次清洗，分別為：對磨邊倒角之后的透明TCO基板玻璃的清洗、透明TCO基板玻璃鍍膜后第一次激光刻蝕后的清洗、疊片前即進行第四次P4激光刻蝕清邊之后的透明TCO基板玻璃的清洗、及背板玻璃的清洗，傳統做法是利用TFT生產線上的清洗工藝使用一臺清洗機完成四次清洗。而在薄膜太陽能電池生產過程中不同的工序后玻璃表面會殘留不同的雜質及殘留物，其清洗的工藝及方法必然各不相同。顯然這樣根本不能滿足清潔度的需求，不能根據雜質及殘留物的不同而有的放矢。利用TFT生產線上的清洗機對進行第四次P4激光刻蝕清邊之后的透明TCO基板玻璃清洗不僅清潔度達不到要求，而且容易損壞TCO膜層，也會影響后續的鍍膜工藝，影響整個電池的發電效率。加之，TFT生產線上的清洗機工藝比較復雜，流程長，成本高，投資大，也使得非晶硅薄膜太陽能電池的制造成本大大增加。

發明內容

本發明為了解決傳統的清洗工藝不能滿足對進行第四次P4激光刻蝕清邊之后的透明TCO基板玻璃的清洗需求的技術問題，設計了一種用于對經過激光刻蝕清邊后TCO基板玻璃的清洗工藝，利用該清洗工藝能夠去除經過P4激光切邊后的TCO玻璃表面殘留的微粒、碎屑等雜質，能夠有效提高生產線后續工藝的基板和背板玻璃疊片質量，對提高電池的效率起到至關重要的作用。

本發明采用的技術方案是：一種用于對經過激光刻蝕清邊后TCO基板玻璃的清洗工藝，關鍵在于：本工藝是借助在TCO基板玻璃傳送輥上依次設置的預噴淋清洗腔室、高壓噴淋清洗腔室、緩沖腔室、二次噴淋清洗腔室、漂洗腔室及烘干腔室實現的，所述的工藝步驟中包括：

A、預噴淋清洗：將預噴淋清洗腔室控制在常溫狀態下，將去離子水作為清洗液、將在TCO基板玻璃傳送輥上、下方90-110mm處分別設置的一組噴嘴組件作為清洗工具進行預噴淋，其中，每組噴嘴組件中包括18-25個扇形噴嘴，每個噴嘴在0.12-0.16Mpa壓力下的流量為1-1.1?L/Min；

B、高壓噴淋清洗：將高壓噴淋清洗腔室控制在常溫狀態下，以去離子水作為清洗劑、將在傳送輥上方90-110mm處分別設置的一組噴嘴組件作為清洗工具進行噴淋清洗，其中，每組噴嘴組件中包括18-25個扇形噴嘴，每個噴嘴在2-3.5Mpa壓力下的流量為1.81-2.37?L/Min；

C、瀝水：將緩沖腔室控制在常溫狀態，借助傳送輥將基板玻璃從緩沖腔室的入口送至出口，再此過程中，基板玻璃上殘留的水分落至腔室底部以清除高壓噴淋清洗后殘留的水分；

D、二次噴淋清洗：將二次噴淋清洗腔室控制在常溫下，將去離子水作為噴淋液、將在傳送輥上、下方90-110mm處分別設置的一組噴嘴組件作為清洗工具進行噴淋，其中，每組噴嘴組件中包括18-25個扇形噴嘴，每個噴嘴在0.3-0.4Mpa壓力下的流量為1-1.15?L/Min；

E、漂洗：在漂洗腔室中，將TCO基板玻璃上、下表面漂凈；

F、烘干：在烘干腔室中，將TCO基板玻璃上、下表面烘干，完成整個清洗工藝過程。

所述的二次噴淋清洗腔室的數量為2個，依次設置于緩沖腔室之后、漂洗腔室之前。

所述的漂洗腔室的數量為2個，依次設置于再次噴淋清洗腔室之后、烘干腔室之前，將漂洗腔室控制在常溫下，以去離子水作為漂洗劑、將經過再次噴淋工序后的TCO基板玻璃傳送輥上、下方90-110mm處分別設置的一組噴嘴組件作為清洗工具進行漂洗，其中，每組噴嘴組件中包括15-20個扇形噴嘴，每個噴嘴在0.12-0.16Mpa壓力下的流量為1-1.15?L/Min。

所述的烘干腔室的數量為2個，依次設置于漂洗腔室之后，在此基礎上，所述的烘干工序步驟中包括：

E1、一級風刀吹掃烘干：在第一烘干腔室中進行，利用傳送輥上、下方0-8mm處分別設置的一級風刀進行烘干，其中，一級風刀與TCO基板玻璃行進方向的夾角為60°-80°，吹出的風溫度為25~50℃，風量為200~700m³?/h；