[發明專利]一種低介電常數微波介質陶瓷粉體及其制備方法

無效

• 申請號: 201310343136.8
• 申請日: 2013-08-08
• 公開（公告）號: CN103396101A
• 公開（公告）日: 2013-11-20
• 發明（設計）人: 李登豪;王煥平;徐時清;肖珍;呂雨強
• 申請（專利權）人: 中國計量學院
• 主分類號: C04B35/16
• 分類號: C04B35/16;C04B35/63;C04B35/626
• 代理公司: 浙江英普律師事務所 33238
• 代理人: 陳小良

1.一種低介電常數微波介質陶瓷粉體，其特征在于原材料的摩爾份數組成為：?

所述的鈣的化合物為硝酸鈣、醋酸鈣、氯化鈣中的一種或幾種；所述的鋁的化合物為硝酸鋁、乙酸鋁、氯化鋁、異丙醇鋁中的一種或幾種；所述的鋰的化合物為硝酸鋰、氯化鋰、乙酰乙酸鋰中的一種或幾種；所述的銅的化合物為硝酸銅、乙酸銅、氯化銅中的一種或幾種；所述的鉍的化合物為硝酸鉍、氯化鉍、硫酸鉍中的一種或幾種。?

2.根據權利要求1所述的一種低介電常數微波介質陶瓷粉體，其特征在于原材料的摩爾份數組成為：?

。

3.根據權利要求2所述的一種低介電常數微波介質陶瓷粉體，其特征在于原材料的摩爾份數組成為：?

。

4.一種低介電常數微波介質陶瓷粉體的制備方法，其特征在于包括下述步驟：?

(1)將正硅酸乙酯溶解于無水乙醇中，形成0.5～2.0mol/l的溶液；?

(2)將鈣的化合物、鋁的化的合物、鋰的化的合物、銅的化的合物、鉍的化的合物溶解于無水乙醇中，形成1.0～2.5mol/l的溶液，同時加入適量的pH?值調節劑將混合溶液的pH值調至4.0～6.0；?

(3)將上述(2)的溶液加入到(1)的溶液中，同時按正硅酸乙酯物質量的2～8倍加入去離子水，然后按正硅酸乙酯物質量的1%～5%加入表面活性劑，混合攪拌均勻；?

(4)將上述混合溶液置于40～80℃的水浴中，直至獲得透明的凝膠；?

(5)將上述凝膠在80～100℃的烘箱中干燥12～24小時，然后放入高鋁坩堝中，在750～850℃進行煅燒，獲得陶瓷粉體；?

所述的pH值調節劑為硝酸、鹽酸、乙酸中的一種或幾種；所述的表面活性劑為油酸、聚乙二醇、聚乙烯醇以及聚乙烯醇縮丁醛中的一種或幾種。?

5.根據權利要求4所述的一種低介電常數微波介質陶瓷粉體的制備方法，其特征在于所述的步驟(1)中正硅酸乙酯溶解于無水乙醇中，形成1.2～1.8mol/l的溶液。?

6.根據權利要求4所述的一種低介電常數微波介質陶瓷粉體的制備方法，其特征在于所述的步驟(2)中將鈣的化合物、鋁的化的合物、鋰的化的合物、銅的化的合物、鉍的化的合物溶解于無水乙醇中，形成1.2～1.8mol/l的溶液，同時將混合溶液的pH值調至4.5～5.0。?

7.根據權利要求4所述的一種低介電常數微波介質陶瓷粉體的制備方法，其特征在于所述的步驟(3)中加入去離子水的量為正硅酸乙酯的3～4倍，加入表面活性劑的量為正硅酸乙酯的2%～3%。?