[發明專利]激光退火設備

在審

• 申請號: 201310341694.0
• 申請日: 2013-08-07
• 公開（公告）號: CN103934568A
• 公開（公告）日: 2014-07-23
• 發明（設計）人: 樸喆鎬;秋秉權;金銀哲;孫希根;尹種鉉
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: B23K26/00
• 分類號: B23K26/00;B23K26/064;B23K26/70;H01L21/67
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 韓明星;羅延紅

本申請要求于2013年1月22日在韓國知識產權局提交的第10-2013-0007090號韓國專利申請的優先權和權益，該韓國專利申請的公開通過引用被完全包含于此。

技術領域

本發明的實施例的方面涉及一種激光退火設備。

背景技術

通常，在諸如薄膜晶體管（TFT）液晶顯示（LCD）裝置或有源有機發光顯示裝置的顯示裝置中，通過使用電連接到像素的TFT來控制光從像素的發射或從像素發射的光的強度。TFT可以具有各種構造，但是可以通過使用具有高遷移率的多晶硅被構造為包括有源層。為此，利用了將非晶硅晶化成多晶硅的工藝。

然而，在用于晶化非晶硅的傳統激光退火設備中，在激光退火過程中照射激光束的精確度降低。

發明內容

本發明的實施例的方面提供了一種能夠在激光退火期間使因反射的激光束導致的錯誤率最小化或降低的激光退火設備。然而，本發明不限于此。

根據本發明的實施例，一種激光退火設備包括：透鏡單元，被構造為使激光束透射為照射到照射目標上；透鏡單元殼，容納透鏡單元并且具有開口，所述開口被構造為允許激光束穿過所述開口；擋板，被構造為阻擋在激光束透射過透鏡單元到照射目標之后被照射目標反射的激光束的至少一部分；冷卻單元，位于擋板和透鏡單元殼之間。

透射過透鏡單元的激光束可以以除了0°之外的入射角入射在照射目標上。另外，擋板可以位于透鏡單元殼下方并且可以至少部分地阻擋被照射目標反射的激光束朝著透鏡單元殼行進。

冷卻單元可以包括流體通道，所述流體通道具有入口和出口。

冷卻單元可以具有包含與透鏡單元殼的開口相對應的開口的板的形狀。此外，冷卻單元可以在冷卻單元的開口的側部處面接觸擋板。

冷卻單元可以包括殼體接觸單元，所述殼體接觸單元從冷卻單元的邊緣朝著透鏡單元殼突出并且接觸透鏡單元殼。殼體接觸單元可以包圍冷卻單元的邊緣。另外，所述激光退火設備還可以包括凈化線路，所述凈化線路利用凈化氣體來凈化冷卻單元和透鏡單元殼之間的空間。更具體地說，凈化線路可以經由殼體接觸單元凈化冷卻單元和透鏡單元殼之間的空間。

所述激光退火設備還可以包括冷卻單元位置調節單元，所述冷卻單元位置調節單元被構造為調節冷卻單元的位置，以改變冷卻單元的開口的位置。

冷卻單元可以接觸擋板的面對透鏡單元殼的表面。

附圖說明

通過參照附圖更加詳細地描述本發明的示例性實施例，本發明的以上和其它特征及方面將變得更加清楚，在附圖中：

圖1是根據本發明實施例的激光退火設備的示意圖；

圖2是圖1中示出的激光退火設備的擋板的剖視圖；

圖3是圖1中示出的激光退火設備的冷卻單元的透視圖；

圖4是示出在使用根據對比示例的激光退火設備時的情況下的出錯率的曲線圖；

圖5是示出在使用圖1中示出的激光退火設備時的情況下的出錯率的曲線圖；

圖6是根據本發明另一實施例的激光退火設備的示意圖；

圖7是圖6中示出的激光退火設備的冷卻單元的透視圖；

圖8是根據本發明另一實施例的激光退火設備的示意圖；

圖9是根據本發明另一實施例的激光退火設備的示意圖；

圖10是圖9中示出的激光退火設備的冷卻單元的透視圖；

圖11是根據本發明另一實施例的激光退火設備的冷卻單元的透視圖。

具體實施方式

現在將參照附圖更充分地描述本發明，在附圖中示出了本發明的示例性實施例。然而，本發明可以以許多不同的形式來實施，且不應該解釋為局限于在這里所闡述的實施例；相反，提供這些實施例使得本公開將是徹底和完全的，并將本發明的構思充分地傳達給本領域的普通技術人員。在附圖中，為了便于說明，會夸大元件的尺寸。

在下面的描述中，x軸、y軸和z軸不限于呈正交坐標系的三個軸，并且可以被解釋為更寬的意義。例如，x軸、y軸和z軸可以是彼此正交的或非正交的。

另外，為了便于說明，附圖中元件的尺寸和厚度可以被隨意地設置，因此并不限制本發明的范圍。

在附圖中，為了清晰起見，可以夸大層和區域的厚度。將理解的是，當諸如層、區域或基板的元件被稱為“位于”另一元件“上”時，它可以是“直接位于”所述元件“上”或者可以存在一個或多個中間元件。在整個說明書中，相同的標號指示相同的元件。