[發(fā)明專利]積層陶瓷基板的分?jǐn)喾椒翱虅澭b置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310337997.5 | 申請(qǐng)日: | 2013-08-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103786262A | 公開(公告)日: | 2014-05-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 武田真和;村上健二;田村健太 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星鉆石工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B28D1/00 | 分類號(hào): | B28D1/00 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11019 | 代理人: | 壽寧;張華輝 |
| 地址: | 日本大阪府*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陶瓷 方法 刻劃 裝置 | ||
1.一種積層陶瓷基板的分?jǐn)喾椒ǎ谔沾苫宓膬擅娣e層有金屬膜的積層陶瓷基板的分?jǐn)喾椒ǎ涮卣髟谟冢?/p>
利用圖案化工具沿該積層陶瓷基板的刻劃預(yù)定線對(duì)一者的金屬膜進(jìn)行槽加工;
利用圖案化工具沿該積層陶瓷基板的刻劃預(yù)定線對(duì)另一者的金屬膜進(jìn)行槽加工;
沿自該任一者的金屬膜去除金屬膜后的槽使刻劃輪轉(zhuǎn)動(dòng)而對(duì)該陶瓷基板進(jìn)行刻劃;
按照該積層陶瓷基板的刻劃線進(jìn)行斷裂。
2.一種積層陶瓷基板的分?jǐn)喾椒ǎ谔沾苫宓膬擅娣e層有金屬膜的積層陶瓷基板的分?jǐn)喾椒ǎ涮卣髟谟冢?/p>
利用圖案化工具沿該積層陶瓷基板的刻劃預(yù)定線對(duì)一者的金屬膜進(jìn)行槽加工;
沿自該金屬膜的面去除金屬膜后的槽使刻劃輪轉(zhuǎn)動(dòng)而對(duì)該陶瓷基板進(jìn)行刻劃;
利用圖案化工具沿該積層陶瓷基板的刻劃預(yù)定線對(duì)另一者的金屬膜進(jìn)行槽加工;
按照該積層陶瓷基板的刻劃線進(jìn)行斷裂。
3.如權(quán)利要求1至2中任一權(quán)利要求所述的積層陶瓷基板的分?jǐn)喾椒ǎ涮卣髟谟谠撎沾苫宓目虅澥褂糜锌虅澼喌目虅潯?/p>
4.一種積層陶瓷基板的刻劃裝置,用于在陶瓷基板積層有金屬膜的積層陶瓷基板的分?jǐn)嗟目虅澭b置,其特征在于具備:
平臺(tái),其保持成為刻劃的對(duì)象的積層陶瓷基板;
橋,其具有平行于設(shè)置于該平臺(tái)的積層陶瓷基板之面的梁;
第1刻劃頭,其沿該梁移動(dòng)自如地設(shè)置,利用圖案化工具沿保持于該平臺(tái)的積層陶瓷基板的刻劃預(yù)定線對(duì)表面的金屬膜進(jìn)行槽加工;及
第2刻劃頭,其沿該梁移動(dòng)自如地設(shè)置,使刻劃輪轉(zhuǎn)動(dòng)而對(duì)經(jīng)該槽加工的積層陶瓷基板的槽進(jìn)行刻劃。
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