[發(fā)明專利]硅電池上生長氮鎵銦系的三結(jié)太陽能電池在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310335019.7 | 申請日: | 2013-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN104347747A | 公開(公告)日: | 2015-02-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張啟明;王帥;高鵬;吳艷梅;劉如彬;孫強;肖志斌 | 申請(專利權(quán))人: | 中國電子科技集團公司第十八研究所 |
| 主分類號: | H01L31/0687 | 分類號: | H01L31/0687;H01L31/0224 |
| 代理公司: | 天津市鼎和專利商標(biāo)代理有限公司 12101 | 代理人: | 李鳳 |
| 地址: | 300384 天津*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電池 生長 氮鎵銦系 太陽能電池 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于太陽電池技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種硅電池上生長氮鎵銦系的三結(jié)太陽能電池。
背景技術(shù)
公知的能源都是不可再生的,經(jīng)過多年的開采之后,這些能源的儲量都在一天天地減少,而且使用后會造成嚴重的環(huán)境問題,于是人們對太陽能這種取之不盡用之不竭的綠色能源越來越重視,長期以來,都在孜孜不倦地尋找太陽能高轉(zhuǎn)換效率的材料。近年來,以GaN及InGaN,AlGaN為代表的第三代半導(dǎo)體材料—Ⅲ族氮化物是人們研究的熱點,它主要應(yīng)用于光電器件和高溫、高頻、大功率器件。2002年的研究結(jié)果表明,InN的禁帶寬度不是之前報道的1.89eV而是0.7eV,這就意味著通過調(diào)節(jié)InGaN材料中In組分,可使其禁帶寬度從3.4eV(GaN)到0.7eV(InN)連續(xù)可調(diào),也就是其對應(yīng)吸收光譜的波長從紫外部分(365nm)可以一直延伸到近紅外部分(1770nm),幾乎完整地覆蓋了整個太陽光譜,除此之外,還有吸收系數(shù)高、電子遷移率高、抗輻射能力強等優(yōu)點,于是InGaN材料在太陽能電池領(lǐng)域中的應(yīng)用引起了人們的密切關(guān)注。
藍寶石和碳化硅襯底是目前生長InGaN使用最多的材料,使用藍寶石襯底的制備工藝已經(jīng)很成熟了,但是其硬度高、導(dǎo)電及導(dǎo)熱差,限制了InGaN器件的性能;碳化硅襯底相比藍寶石襯底具有更優(yōu)良的性能,但其價格昂貴,限制了它的應(yīng)用;而硅襯底不僅硬度和價格低,而且具有易解理、易得到大面積高質(zhì)量商業(yè)化襯底以及硅基器件易于集成,帶隙為1.12eV等優(yōu)點,被認為是最有希望取代以上兩種襯底生長InGaN的一種理想材料,但是硅襯底存在晶格失配和熱膨脹失配的問題。
經(jīng)過檢索發(fā)現(xiàn),人們開始研究如何采用Si襯底生長InGaN材料制備太陽能電池,并克服晶格失配和熱膨脹失配的問題。如:申請?zhí)枮?00810240351.4,名稱為“p-i-n型InGaN量子點太陽能電池結(jié)構(gòu)及其制作方法”的發(fā)明專利,結(jié)構(gòu)包括:一襯底,其上依次為低溫氮化鎵成核層、非有意摻雜氮化鎵緩沖層、n型摻雜InxGa1-xN層、非摻雜i層InyGa1-yN量子點結(jié)構(gòu)和p型摻雜InxGal-xN層;申請?zhí)枮?01110300096.X,名稱為“含有超晶格結(jié)構(gòu)的p-i-n型InGaN太陽電池”的發(fā)明專利,結(jié)構(gòu)包括:一襯底,其上依次為高溫AlN成核層、非有意摻雜氮化鎵緩沖層、n型摻雜GaN層、InGaN/GaN超晶格和p型摻雜GaN層,而且p型GaN層表面有Ni/Au電極,n型GaN層表面有Al/Au電極;申請?zhí)枮?01210246805.5,名稱為“InGaN/Si雙結(jié)太陽能電池”的發(fā)明專利,結(jié)構(gòu)包括:n-Si襯底,n-Si襯底上面自下至上依次有AlN成核層、GaN緩沖層、Si摻雜的n-InxGa1-xN層、Mg摻雜的p-InxGa1-xN層、半透明電流擴展層和正電極;申請?zhí)枮?01210246406.9,名稱為“一種InGaN/Si雙結(jié)太陽能電池的制備方法”的實用新型專利,結(jié)構(gòu)包括:n-Si襯底,n-Si襯底上面自下至上依次有AlN成核層、GaN緩沖層、Si摻雜的n-InxGa1-xN層、Mg摻雜的p-InxGa1-xN層、半透明電流擴展層和正電極。
上述檢索到的專利申請均采用Si作為襯底制備InGaN系太陽能電池,解決了晶格失配和熱膨脹失配的問題,但前兩個由于增加了外延工藝的復(fù)雜度,降低了電池的總轉(zhuǎn)換效率,提高了生產(chǎn)成本;后兩個為兩結(jié)太陽能電池,并不能充分利用太陽光譜。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為解決現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,提供了一種易于制備、生產(chǎn)成本低、能夠充分利用太陽光譜、總轉(zhuǎn)換效率高、抗輻射能力強、使用壽命長的硅電池上生長氮鎵銦系的三結(jié)太陽能電池。
本發(fā)明采取的技術(shù)方案是:
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





