[發明專利]用于沉積的掩模和對準它的方法

在審

• 申請號: 201310328944.7
• 申請日: 2013-07-31
• 公開（公告）號: CN103572246A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發明（設計）人: 洪宰敏;樸商赫;鄭祐永;權昰娜;姜錫昊;李政烈
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C16/04
• 分類號: C23C16/04;H01L51/56
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 康泉;王珍仙

1.一種用于在透明基板上形成圖案的用于沉積的掩模，包含：

具有掩模對準標記的掩模元件，所述掩模對準標記貫穿地形成，以便對準在所述透明基板上形成的基板對準標記；和

不平整區域，所述不平整區域形成在所述掩模元件的一個表面上，以鄰近所述掩模對準標記，所述不平整區域的表面包含突起和凹陷。

2.根據權利要求1所述的用于沉積的掩模，其中：

所述不平整區域漫反射入射到所述不平整區域的表面上的光。

3.根據權利要求2所述的用于沉積的掩模，其中：

所述不平整區域涂布有漫反射材料。

4.根據權利要求1所述的用于沉積的掩模，其中：

以低于所述用于沉積的掩模的一個表面的高度形成所述不平整區域。

5.根據權利要求4所述的用于沉積的掩模，其中：

所述不平整區域通過半蝕法形成。

6.根據權利要求1所述的用于沉積的掩模，進一步包含：

在所述掩模對準標記和所述不平整區域之間形成的平坦區域，所述平坦區域具有平坦表面。

7.根據權利要求6所述的用于沉積的掩模，其中：

所述平坦區域沿所述掩模對準標記的邊緣形成。

8.根據權利要求6所述的用于沉積的掩模，其中：

所述平坦區域反射入射到所述平坦區域的平坦表面上的光。

9.根據權利要求8所述的用于沉積的掩模，其中：

所述平坦區域涂布有光反射材料。

10.一種對準掩模的方法，包含：

制備透明基板，所述透明基板具有在所述透明基板的一個表面上形成的基板對準標記及鄰近所述基板對準標記形成的角度對準標記；

在所述透明基板上放置用于沉積的掩模，所述掩模包含具有掩模對準標記的掩模元件和不平整區域，所述掩模對準標記貫穿地形成以便對準在所述透明基板上形成的所述基板對準標記，所述不平整區域在所述掩模元件的一個表面上形成以鄰近所述掩模對準標記，所述不平整區域的表面具有突起和凹陷，所述不平整區域面向所述透明基板；

在預定的位置對準所述基板對準標記和所述掩模對準標記；和

對準所述角度對準標記，以使所述角度對準標記在與所述不平整區域重疊的同時被設置在預定的位置。

11.根據權利要求10所述的方法，其中：

在對準所述位置或對準所述角度的步驟中，

在通過面向所述不平整區域設置的測量裝置測量對準狀態后，調節所述透明基板或所述用于沉積的掩模的對準位置。

12.根據權利要求11所述的方法，其中：

所述測量裝置為安裝CCD相機的測量裝置。

13.一種用于在透明基板上形成圖案的用于沉積的掩模，包含：

具有掩模對準標記的掩模元件，所述掩模對準標記貫穿所述掩模元件；和

被設置在所述掩模對準標記的至少兩個相對側的不平整區域，所述不平整區域包含不平坦表面，所述不平坦表面漫反射入射到所述不平整區域的不平坦表面的光。

14.根據權利要求13所述的用于沉積的掩模，所述不平整區域的不平坦表面涂布有漫反射材料。

15.根據權利要求13所述的用于沉積的掩模，所述不平整區域以低于所述用于沉積的掩模的表面的高度形成。

16.根據權利要求13所述的用于沉積的掩模，所述不平整區域形成為包圍全部所述掩模對準標記。

17.根據權利要求13所述的用于沉積的掩模，進一步包含將所述掩模對準標記與所述不平整區域幾何隔離的平坦區域，所述平坦區域具有平坦表面。