[發明專利]一種陣列基板及其制作方法

有效

• 申請號: 201310323825.2
• 申請日: 2013-07-30
• 公開（公告）號: CN103412419A
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發明（設計）人: 郭建
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G02F1/1333
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種陣列基板，包括顯示區域和周邊區域，其中，顯示區域包括多個用于顯示的第一像素單元；周邊區域包括檢測區，在所述檢測區設置有用于檢測的第二像素單元，每一像素單元對應設置有薄膜晶體管，其特征在于，所述周邊區域還包括環繞所述檢測區的分隔區，所述分隔區用于使得檢測區的第二像素單元的薄膜晶體管的特性均勻。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，在所述分隔區設置有非檢測用的第三像素單元。

3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述分隔區的第三像素單元的像素密度不小于10。

4.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述分隔區與檢測區之間設置有間隔。

5.根據權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述分隔區和檢測區之間間隔15-100μm。

6.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述檢測區的第二像素單元以n*m的矩陣形式排布，且所述n和m均為大于3的正整數。

7.根據權利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述n和m分別為50。

8.根據權利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述分隔區的第三像素單元與檢測區的第二像素單元位于同一排。

9.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，在制作初期，周邊區域的像素單元的線寬小于顯示區域的第一像素單元的線寬。

10.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，包括：在襯底基板上形成顯示區域和周邊區域，其中，顯示區域包括多個用于顯示的第一像素單元；所述周邊區域包括檢測區以及環繞所述檢測區的分隔區，其中，所述檢測區設置有用于檢測的第二像素單元，每一像素單元對應設置有薄膜晶體管，分隔區用于使得檢測區的第二像素單元的薄膜晶體管的特性均勻。

11.根據權利要求10所述的制作方法，其特征在于，所述分隔區設置有非檢測用的第三像素單元。

12.根據權利要求11所述的制作方法，其特征在于，分隔區的第三像素單元與檢測區的第二像素單元同時制作。

13.根據權利要求11所述的制作方法，其特征在于，所述周邊區域的像素單元的線寬小于顯示區域的第一像素單元的線寬。