[發(fā)明專利]掩模版固定裝置及方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310321165.4
• 申請(qǐng)日: 2013-07-26
• 公開（公告）號(hào): CN104345572A
• 公開（公告）日: 2015-02-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 江旭初
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時(shí)云

1.一種掩模版固定裝置，其特征在于，包括具有若干凸臺(tái)的承版臺(tái)、若干剛性柱以及若干柔性裝置，每個(gè)凸臺(tái)具有一真空腔，所述真空腔內(nèi)設(shè)有所述剛性柱和柔性裝置，所述剛性柱的上表面和所述凸臺(tái)的掩模吸附面共面，在真空開啟前，所述柔性裝置的上表面處于比所述掩模吸附面高的放松狀態(tài)，在真空開啟后，所述柔性裝置的上表面受到掩模版的擠壓壓縮至所述掩模吸附面的高度。?

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版固定裝置，其特征在于，在真空開啟前，所述掩模版的下表面與掩模吸附面存在Δ值為5um-20um的高度差。?

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版固定裝置，其特征在于，所述承版臺(tái)上設(shè)有與所述真空腔相連通的通道。?

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版固定裝置，其特征在于，所述柔性裝置是一體式軟彈性材料零件。?

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版固定裝置，其特征在于，所述柔性裝置通過粘接方式固定于真空腔內(nèi)。?

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版固定裝置，其特征在于，所述剛性柱和承版臺(tái)一體成型。?

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版固定裝置，其特征在于，所述柔性裝置包括剛性銷和柔性墊，所述柔性墊形成于所述剛性銷的頂部。?

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩模版固定裝置，其特征在于，所述剛性銷、剛性柱以及承版臺(tái)一體成型。?

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版固定裝置，其特征在于，所述柔性裝置是呈線型的柔性壁。?

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模版固定裝置，其特征在于，所述柔性裝置是呈“S”型的柔性壁。?

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模版固定裝置，其特征在于，所述柔性壁和所述?承版臺(tái)的材料相同。?

12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模版固定裝置，其特征在于，所述柔性壁的厚度為0.1mm-0.6mm。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版固定裝置，其特征在于，所述剛性柱和柔性裝置間隔分布。?

14.一種掩模版固定方法，其特征在于，采用如權(quán)利要1～13中任意一項(xiàng)所述的掩模版固定裝置，包括如下步驟：?

當(dāng)進(jìn)行上版時(shí)，掩模固定裝置的真空開啟，掩模版與承版臺(tái)之間的真空建立，柔性裝置受到掩模版的擠壓發(fā)生彈性變形，直至掩模版與掩模吸附面完全接觸；?

當(dāng)進(jìn)行下版時(shí)，掩模固定裝置的真空關(guān)閉，原已經(jīng)發(fā)生彈性變形的柔性裝置釋放變形，將掩模版推頂至真空開啟前的高度位置，掩模版與承版臺(tái)之間的真空得到快速而有效的釋放，直至掩模版只與柔性裝置存在接觸面。?