[發明專利]微波消解制備大比表面積石墨烯的方法有效
| 申請號: | 201310317285.7 | 申請日: | 2013-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN103408001A | 公開(公告)日: | 2013-11-27 |
| 發明(設計)人: | 劉麗來;丁淑芳;丁慧賢;張鴻波;李哲;康文澤;邢善超 | 申請(專利權)人: | 黑龍江科技大學 |
| 主分類號: | C01B31/04 | 分類號: | C01B31/04 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139 | 代理人: | 孫皓晨;丁金玲 |
| 地址: | 150022 黑龍江*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 微波 消解 制備 表面積 石墨 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種制備石墨烯的方法,特別是涉及一種利用微波消解制備大比表面積石墨烯的方法。
背景技術
自2004年英國曼徹斯特大學的A.K.Geim小組首次用機械剝離石墨的方法制備出石墨烯以來,石墨烯作為一種新型的二維納米碳質材料,因其具有獨特的結構和性能,備受人們的關注。石墨烯是一種由碳原子以sp2雜化軌道組成的六方點陣蜂窩狀二維結構材料,單層厚度為0.35nm,C-C鍵長為0.142nm,是構成富勒烯、碳納米管及石墨的基本單元,具有優異的導電、導熱、力學和電化學等性能。單原子層石墨烯材料理論比表面積高達2630m2/g,半導體本征電子遷移率約為2×105cm2/V·s,電阻率約為10-6Ω·cm,熱傳導率為高達5000W/m·K,楊氏模量為1100GPa,斷裂強度為125GPa,透光率高達97.7%。基于上述特性,石墨烯在電子、信息、能源、生物、醫學等領域具有非常廣闊的應用前景。
國內外石墨烯的主要制備方法有微機械剝離法、外延生長法、化學氣相沉積法、氧化還原法、液相剝離法等。這些方法具有許多自身的制備優點,然而也存在一定的缺陷。微機械剝離法制得的石墨烯質量高,適用于研究石墨烯的電學性質,但該方法很難得到較大面積的石墨烯材料;外延生長法制備條件苛刻,均要求在高溫、高真空或某種特定氣氛及單晶襯底等條件下進行,且制得的石墨烯不易從襯底上分離出來,基本不能成為大規模制備石墨烯的適用方法;化學氣相沉積法在制備過程中會有雜質生成,且該方法對設備及外圍設施依賴性較強;液相剝離法制得的產物是膠狀石墨烯懸浮液,這種液體產物在某種程度上限制了石墨烯的應用,而且該方法制備得到的單層石墨烯量較少,成本較高。氧化還原法是目前較為常見的低成本、高效地制備大面積薄層石墨烯材料的方法。該方法將高純天然石墨通過氧化技術進行氧化,得到基本分子結構為C六邊形且表面及邊緣存在大量的羥基、羧基、環氧等基團的氧化石墨烯,將氧化石墨烯水洗至中性,再通過還原的方法去除其分子結構上的含氧基團,最后得到石墨烯材料的方法。高純石墨原料的使用增加石墨烯的制備成本,膠體狀氧化石墨烯水洗至中性十分困難,化學液相還原法應用最為廣泛,然而還原劑大部分有毒性,使得整個還原過程存在危險和不穩定性。
發明內容
針對現有石墨烯制備方法存在的上述缺陷,本發明要解決的技術問題是提供一種以石墨為原料,在酸性條件下進行氧化石墨烯還原制備石墨烯的方法。該制備方法操作簡單,氧化石墨烯溶液無需水洗至中性,在氧化石墨烯還原過程中無需添加任何輔助化學試劑,反應時間短,還原效率高,無環境污染,制備的石墨烯純度高,比表面積大。
為達上述目的,本發明一種微波消解制備大比表面積石墨烯的方法,包括以下步驟:
(1)以膨脹石墨為原料制備濃度為0.5-4mg/mL的氧化石墨酸性溶液,將該氧化石墨酸性溶液進行超聲處理得到氧化石墨烯酸性溶液;
(2)將超聲后的氧化石墨烯酸性溶液加入到微波加熱密閉容器中,采用高溫增壓方法進行氧化石墨烯的微波消解法還原;
(3)將還原得到的黑色粉末進行水洗、干燥,得到單層大片的石墨烯。
進一步地,本發明的方法,其中優選所述膨脹石墨的純度為75-99%,粒度為5-600μm。石墨原料純度越高越好,但高純石墨原料的成本較高。現有制備石墨烯的方法一般要求原料為高純石墨,本發明方法不限于高純石墨原料,對于非高純石墨原料也非常適用。
本發明的方法,其中優選所述步驟(1)中氧化石墨酸性溶液為氧化石墨的鹽酸溶液、稀硫酸溶液或稀硝酸溶液。對酸性溶液的濃度沒有要求,優選其pH值為4-6.5。
本發明的方法,其中優選所述步驟(1)中氧化石墨酸性溶液的濃度為1-3mg/mL,濃度太低,還原效率較低,濃度太高,石墨烯的可剝離度較差。本發明經過長期試驗證明,當濃度為1-3mg/mL時,得到的石墨烯純度較高,比表面積較大。
本發明所述的膨脹石墨是以鱗片石墨原料制備得到的,該制備方法為本領域常規方法。如在鱗片石墨原料中加入濃硫酸,置于冰水浴中攪拌,緩慢加入強氧化劑(如高錳酸鉀),攪拌均勻后置于40℃水浴中反應一段時間,離心、水洗至中性,干燥后得到可膨脹石墨。將可膨脹石墨經過高溫處理,得到膨脹石墨。
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