[發明專利]激光轉印方法和該方法使用的激光轉印裝置

無效

• 申請號: 201310306105.5
• 申請日: 2013-07-19
• 公開（公告）號: CN103568614A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發明（設計）人: 石原慎吾;松崎永二;松浦宏育;矢崎秋夫
• 申請（專利權）人: 株式會社日立高新技術
• 主分類號: B41M5/382
• 分類號: B41M5/382;B41J2/435;H01L51/56;H01L51/40
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種激光轉印方法，將形成于金屬施主片上的薄膜轉印到與所述金屬施主片相對的基板上，所述激光轉印方法的特征在于：

將多個脈沖激光串沿一定方向進行掃描對所述金屬施主片背面進行照射，照射第二脈沖光進行掃描，使得第二脈沖光的至少一部分與照射了第一脈沖光的部分重疊。

2.如權利要求1所述的激光轉印方法，其特征在于：

使用具有在照射所述第一脈沖光之后至照射所述第二脈沖光的時間，從被照射了所述第一脈沖光的所述金屬施主片背面部分至熱擴散長區域的溫度比所述薄膜的蒸鍍溫度低的重復頻率的所述脈沖激光串。

3.如權利要求1所述的激光轉印方法，其特征在于：

使用在照射所述第一脈沖光之后至照射所述第二脈沖光的時間，從被照射了所述第一脈沖光的所述金屬施主片背面部分至熱擴散長區域的溫度比所述薄膜的蒸鍍溫度低的板厚的所述金屬施主片。

4.如權利要求1所述的激光轉印方法，其特征在于：

使用在照射所述第一脈沖光之后至照射所述第二脈沖光的時間，從被照射了所述第一脈沖光的所述金屬施主片背面部分至熱擴散長區域的溫度比所述薄膜的蒸鍍溫度低的脈沖能量的所述第一脈沖光。

5.如權利要求1所述的激光轉印方法，其特征在于：

在所述金屬施主片和所述基板之間具有間隙。

6.如權利要求5所述的激光轉印方法，其特征在于：

所述間隙取為10μm以上且100μm以下。

7.如權利要求1所述的激光轉印方法，其特征在于：

所述薄膜是從所述金屬施主片側起依次層疊有載流子輸送層、有源層的層疊膜，或者是從所述金屬施主片側依次層疊有有源層、載流子輸送層的層疊膜。

8.如權利要求1所述的激光轉印方法，其特征在于：

所述薄膜是從所述金屬施主片側起依次層疊有有源層、載流子輸送層的層疊膜。

9.如權利要求1所述的激光轉印方法，其特征在于：

所述薄膜是從所述金屬施主片側起依次層疊有載流子輸送層、有源層、載流子輸送層的層疊膜。

10.如權利要求1所述的激光轉印方法，其特征在于：

所述薄膜是從所述金屬施主片側起依次層疊有電極層、載流子輸送層、有源層的層疊膜。

11.如權利要求1所述的激光轉印方法，其特征在于：

所述薄膜是從所述金屬施主片側起依次層疊有多個載流子輸送層、有源層、多個載流子輸送層的層疊膜。

12.如權利要求1所述的激光轉印方法，其特征在于：

在所述基板上形成有電極，所述脈沖激光串的掃描方向為所述電極的長邊方向。

13.如權利要求12所述的激光轉印方法，其特征在于：

所述電極是圖像顯示裝置的像素電極，所述像素電極被分類為具有至少三種以上的發光色的子像素電極，所述脈沖激光沿規定的發光色的所述子像素電極的長邊方向掃描。

14.如權利要求13所述的激光轉印方法，其特征在于：

所述子像素電極以鑲嵌排列或三角排列配置，

所述脈沖激光在規定的發光色的所述子像素電極相鄰的方向掃描。

15.如權利要求1所述的激光轉印方法，其特征在于：

形成有所述金屬施主片的板厚不同的區域，不被照射所述脈沖激光串的區域的金屬施主片的板厚，比被照射所述脈沖激光串的區域的金屬施主片的板厚厚。

16.如權利要求1所述的激光轉印方法，其特征在于：

所述金屬施主片形成為雙層構造，被照射所述脈沖激光串的一側的金屬板的熱擴散率，比形成有所述薄膜的一側的金屬板的熱擴散率大。

17.一種激光轉印裝置，將形成于金屬施主片上的薄膜轉印到與所述金屬施主片相對的基板上，所述激光轉印裝置的特征在于：

具有轉印部和薄膜形成部，其中，

所述轉印部執行如下激光轉印方法：使多個脈沖激光串沿一定方向進行掃描并向所述金屬施主片背面進行照射，照射第二脈沖光進行掃描，使得第二脈沖光的至少一部分與照射了第一脈沖光的部分重疊，

所述薄膜形成部在所述金屬施主片上形成有機膜作為所述薄膜。