[發明專利]一種測量束流的法拉第裝置

有效

• 申請號: 201310303660.2
• 申請日: 2013-07-18
• 公開（公告）號: CN103792566A
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發明（設計）人: 龐云玲
• 申請（專利權）人: 北京中科信電子裝備有限公司
• 主分類號: G01T1/29
• 分類號: G01T1/29
• 代理公司: 長沙正奇專利事務所有限責任公司 43113
• 代理人: 馬強

技術領域

本發明涉及一種半導體器件制造控制系統，即離子注入機，特別地，涉及一種用于離子注入機的束流測量裝置。

背景技術

隨著半導體工藝的發展，束流的均勻性和穩定性對于離子注入系統愈發重要，對注入產品的質量和離子注入機的產業化有著很大的影響。而束流的均勻性和穩定性的控制，必須有束流測量參數的支持。在離子束流建立和優化調整時，對束分布狀況進行實時檢測，注入前檢測平行束參數，注入中實時檢測注入的劑量，這些參數均由不同的測束法拉第完成。

良好均勻性是最終得到高品質產品的基礎，目前對于離子源引出束流均勻性的控制要求已成為產業發展的迫切需求，束流的準確測量是進行均勻性控制必備的基礎。

發明內容

本發明公開了一種用于束流均勻性調節的裝置，最典型的應用是在離子注入系統中。其針對現有束流法拉第測量裝置測試結果的不精確性、密封性能難保證和發熱現象，提出了很好的解決辦法。本測量裝置可以和束流注入前布置的移動法拉第一起完成束角度的檢測，為注入靶臺旋轉角度提供依據。

本發明通過以下技術方案實現：

1.一種束流的法拉第測量裝置，包括：密封插座(1)、法拉第杯安裝板(2)、法拉第收集框(3)、石墨擋板(4)、導磁板(5)、微型法拉第杯(6)，其特征在于：

所述微型法拉第杯(6)安裝于法拉第杯安裝板(2)上，所述法拉第杯安裝板(2)通過所述法拉第收集框(3)的連接固定于離子注入機上，所述微型法拉第杯(6)位于法拉第收集框(3)內部，所述石墨擋板(4)安裝于所述法拉第收集框(3)上，位于微型法拉第杯(6)入口前方位置。

2.權利要求1所述的一種束流的法拉第測量裝置，其特征在于：所述微型法拉第杯(6)共21個與所述導磁板(5)并列安裝于法拉第杯安裝板(2)上，并通過絕緣墊與法拉第杯安裝板(2)絕緣；所述微型法拉第杯(6)側壁上設置抑制磁鐵和磁鐵安裝板，與所述導磁板(5)一起形成磁路；此微型法拉第杯(6)的設置可由其它較多數量(不少于10)和其它放置方式替代；所述微型法拉第杯(6)分布密集，磁路設計合理，測量數據準確。

3.權利要求1所述的一種束流的測量裝置，其特征在于：所述法拉第杯安裝板(2)及其上安裝的所述微型法拉第杯(6)與所述導磁板(5)一起固定于所述法拉第收集框(3)上，所述石墨擋板(4)安裝于所述法拉第收集框(3)上，位于所述微型法拉第杯(6)入口前方位置，保持不接觸。

4.權利要求2和3中所述的一種束流的法拉第測量裝置，其特征在于：所有組成部分均安裝于所述法拉第收集框(3)內，置于真空環境中，便于系統真空環境的維護。

5.權利要求2和3中所述的一種束流的法拉第測量裝置，其特征在于：所述微型法拉第杯(6)的引線，設于安裝底座的固定處，統一由所述密封插座(1)引出。

6.前述權利要求中所述的一種束流的法拉第測量裝置，其特征在于：所述法拉第杯安裝板(2)和所述法拉第收集框(3)結構上同時設有冷卻水路，能達到良好的冷卻效果。

7.前述權利要求中任一項的束流的測量裝置應用于離子或注入系統。

本發明具有如下顯著優點：

1.本發明由多個微型杯體組成(不少于10個)，且杯體側壁上設有抑制磁鐵和磁鐵安裝板和導磁板，法拉第杯分布密集，磁路設計合理，測量數據準確。

2.本發明的法拉第測量杯體置于法拉第收集框內，位于真空系統內，避免了每個杯體與真空腔體都有密封連接的缺點，便于系統真空環境的維護。

3.真空腔內外的接線統一由密封插座引出，布線簡單。

4.安裝板和收集框同時冷卻，冷卻效果好。

附圖說明

附圖說明本發明的具體實施方式。在圖中，相同的附圖標記表示相同的部件。

圖1法拉第測量裝置外形圖

圖2隱藏石墨擋板后的結構

圖3法拉第杯

具體實施方式

下面結合附圖1、附圖2和附圖3對本發明作進一步的介紹，但不作為對本發明的限定。發明的范圍僅由所附權利要求的范圍所限定。

本發明的一種實施方式如圖1、圖2和圖3所示。