[發明專利]基于SiGe BiCMOS的寬帶射頻芯片靜電保護電路有效
| 申請號: | 201310302691.6 | 申請日: | 2013-07-12 |
| 公開(公告)號: | CN103400841A | 公開(公告)日: | 2013-11-20 |
| 發明(設計)人: | 莊奕琪;李振榮;李國華;靳剛;李聰 | 申請(專利權)人: | 西安電子科技大學 |
| 主分類號: | H01L27/088 | 分類號: | H01L27/088;H01L29/06;H01L27/04;H01L23/60 |
| 代理公司: | 陜西電子工業專利中心 61205 | 代理人: | 王品華;朱紅星 |
| 地址: | 710071*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 sige bicmos 寬帶 射頻 芯片 靜電 保護 電路 | ||
1.一種基于SiGe?BiCMOS的寬帶射頻芯片靜電保護電路,包括:
集成襯底靜電放電ESD二極管,其位于寬帶射頻輸入輸出端口,用于釋放負向瞬態靜電放電ESD脈沖事件發生時所產生的輸入輸出端口與接地端口之間的大電流;
集成N阱靜電放電ESD二極管,其位于寬帶射頻輸入輸出端口,用于釋放正向瞬態靜電放電ESD脈沖事件發生時所產生的輸入輸出端口與電源端口之間的大電流;
其特征在于:
所述的集成襯底靜電放電ESD二極管,由1個或多個襯底靜電防護ESD二極管組成,每個二極管的陰極陽極摻雜區及金屬接觸條均采用梯型叉指結構;二極管的外圍填充有多晶硅材料,以對二極管自身進行隔離;
所述的集成N阱靜電放電ESD二極管,由1個或多個N阱靜電防護ESD二極管組成,每個二極管的陰極陽極摻雜區及金屬接觸條均采用梯形叉指型結構;二極管的外圍填充有多晶硅材料,以對二極管自身進行隔離,二極管的下方設有N型埋層和N型外延層,以減小二極管的寄生效應。
2.根據權利要求1所述的靜電保護電路,其特征在于:所述的梯型叉指結構,是指梯形長邊為叉指的始端,梯形短邊為叉指的末端,梯形兩條斜邊為叉指斜邊線。
3.根據權利要求2所述的靜電保護電路,其特征在于:所述的叉指斜邊線采用交替的0度分段走線和45度角分段走線形成的鋸齒狀斜邊線。
4.根據權利要求2所述的靜電保護電路,其特征在于:所述的叉指斜邊線進一步采用交替的0度分段走線和90度角分段走線形成的鋸齒狀斜邊線。
5.根據權利要求1所述的靜電保護電路,其特征在于:所述的多晶硅材料,指采用西門子法氣相淀積產生的柱狀多晶硅材料。
6.根據權利要求1所述的靜電保護電路,其特征在于:所述的N型埋層,是采用高溫熱擴散將雜質材料磷P或砷As摻雜至襯底中形成的N型雜質擴散區。
7.根據權利要求1所述的靜電保護電路,其特征在于:所述的N型外延層,是采用化學氣相淀積將雜質材料磷P或砷As與硅Si材料一起淀積在襯底上形成的單晶N型外延薄膜。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





