[發明專利]利用光二聚化學作用的光致抗蝕劑和使用該光致抗蝕劑的有機發光二極管顯示器的制造方法有效
| 申請號： | 201310292187.2 | 申請日： | 2013-07-12 |
| 公開（公告）號： | CN103852974A | 公開（公告）日： | 2014-06-11 |
| 發明（設計）人： | 李鎮均;金英美;尹鐘根;許峻瑛;都義斗;李妍景;金秀炫 | 申請（專利權）人： | 樂金顯示有限公司;仁荷大學博物館產學協力團 |
| 主分類號： | G03F7/09 | 分類號： | G03F7/09;G03F7/004;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人： | 龐東成;解延雷 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 利用 光二聚 化學 作用 光致抗蝕劑 使用 有機 發光二極管 顯示器 制造 方法 | ||
1.一種光致抗蝕劑用共聚物，所述共聚物通過包括以下步驟的方法形成：
提供由式(1)表示的第一單體和由式(2)表示的第二單體：
由所述第一單體和所述第二單體形成所述共聚物，其中，x:y是所述第一單體與所述第二單體的比率，并且x:y選自x:y=1:0.1至x:y=1:1的范圍。
2.如權利要求1所述的共聚物，其中，x:y選自x:y=1:0.19至x:y=1:0.77的范圍。
3.如權利要求1所述的共聚物，其中，x:y為1:0.19。
4.如權利要求1所述的共聚物，其中，x:y為1:0.25。
5.如權利要求1所述的共聚物，其中，x:y為1:0.38。
6.如權利要求1所述的共聚物，其中，x:y為1:0.58。
7.如權利要求1所述的共聚物，其中，x:y為1:0.77。
8.一種有機發光二極管顯示器的制造方法，所述方法包括：
在基板上形成電極；
在所述電極上沉積有機發光層；
在所述有機發光層上沉積光致抗蝕劑，所述光致抗蝕劑包含共聚物，所述共聚物通過包括以下步驟的方法形成：
提供由式(1)表示的第一單體和由式(2)表示的第二單體：
由所述第一單體和所述第二單體形成所述共聚物，其中，x:y是所述第一單體與所述第二單體的比率，并且x:y選自x:y=1:0.1至x:y=1:1的范圍；
通過使用掩模使所述光致抗蝕劑對紫外光曝光從而使所述光致抗蝕劑圖案化成為圖案化光致抗蝕劑；
使用所述圖案化光致抗蝕劑使所述有機發光層圖案化成為圖案化有機發光層；和
剝去所述圖案化光致抗蝕劑。
9.如權利要求8所述的方法，其中，所述紫外光的波長為365nm。
10.如權利要求8所述的方法，其中，使用含氟溶劑對所述光致抗蝕劑進行圖案化。
11.如權利要求8所述的方法，其中，x:y選自x:y=1:0.19至x:y=1:0.77的范圍。
12.一種有機發光二極管顯示器的制造方法，所述方法包括：
在基板上形成電極；
在所述電極上沉積光致抗蝕劑，所述光致抗蝕劑包含共聚物，所述共聚物通過包括以下步驟的方法形成：
提供由式(1)表示的第一單體和由式(2)表示的第二單體：
由所述第一單體和所述第二單體形成所述共聚物，其中，x:y是所述第一單體與所述第二單體的比率，并且x:y選自x:y=1:0.1至x:y=1:1的范圍；
通過使用掩模使所述光致抗蝕劑對紫外光曝光從而使所述光致抗蝕劑圖案化成為圖案化光致抗蝕劑；
在所述圖案化光致抗蝕劑和所述電極上沉積有機發光層；和
除去所述圖案化光致抗蝕劑和所述圖案化光致抗蝕劑上的所述有機發光層部分。
13.如權利要求12所述的方法，其中，所述紫外光的波長為365nm。
14.如權利要求12所述的方法，其中，使用含氟溶劑對所述光致抗蝕劑進行圖案化。
15.如權利要求12所述的方法，其中，x:y選自x:y=1:0.19至x:y=1:0.77的范圍。
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