[發明專利]一種厚膜加熱裝置的加工方法、厚膜加熱容器和設備

有效

• 申請號: 201310289894.6
• 申請日: 2013-07-11
• 公開（公告）號: CN103415092A
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發明（設計）人: 朱澤春;黃青軍;朱廣
• 申請（專利權）人: 九陽股份有限公司
• 主分類號: H05B3/22
• 分類號: H05B3/22;B29C67/04;A47J31/54
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.?一種厚膜加熱裝置的加工方法，其特征在于，包括：

預成型步驟S1：對不銹鋼基板進行沖壓，制成具有凹面的預變形基板，所述凹面自預變形基板的中部延伸至邊沿，且變形量逐漸減小；其中，所述不銹鋼基板的厚度為0.6~4.0mm，預變形基板的最大形變量為0.2~5mm；

清潔步驟S2：對所述預變形基板進行去油清洗，并干燥；

印刷燒結步驟S3：在預變形基板的凹面內印刷燒結加熱厚膜漿料，預變形基板的凹面被厚膜漿料燒結產生的內應力拉平形成平面；其中所述厚膜漿料印刷燒結在基板上的面積與基板面積之比為0.2~0.8，所述厚膜漿料的厚度為0.08mm~0.6mm。

2.?如權利要求1所述的一種厚膜加熱裝置的加工方法，其特征在于，所述步驟S3中加熱厚膜漿料包括依次印刷燒結的絕緣層漿料、電加熱層漿料、保護層漿料。

3.?如權利要求2所述的一種厚膜加熱裝置的加工方法，其特征在于，所述電加熱層漿料的厚度為0.1~0.2mm。

4.?如權利要求3所述的一種厚膜加熱裝置的加工方法，其特征在于，所述不銹鋼基板的厚度為0.8~1.6mm。

5.?如權利要求2至4任意一項所述的一種厚膜加熱裝置的加工方法，其特征在于，所述厚膜漿料為稀土厚膜漿料。

6.?如權利要求5所述的一種厚膜加熱裝置的加工方法，其特征在于，所述加熱厚膜的漿料還包括導電層漿料和連接電極漿料，步驟S3中印刷燒結的順序依次為絕緣層漿料、電加熱層漿料、導電層漿料、連接電極漿料、保護層漿料。

7.?一種厚膜加熱容器，包括側壁和底壁，其特征在于，所述底壁由權利要求1至6任意一項所述加工方法制作的厚膜加熱裝置，厚膜加熱裝置焊接在側壁上。

8.?一種食品加熱設備，包括厚膜加熱容器，厚膜加熱容器包括側壁和底壁，底壁為厚膜加熱裝置，其特征在于，所述厚膜加熱裝置為權利要求1至6任意一項所述加工方法制作的厚膜加熱裝置，厚膜加熱裝置固定在容器的底部，不銹鋼基板構成容器的底。

9.?如權利要求8所述的一種食品加熱設備，其特征在于，所述食品加熱設備為開水煲、豆漿機、咖啡機、果汁機或電熱鍋。

10.?如權利要求9所述的一種食品加熱設備，其特征在于，還包括溫控器，溫控器貼附在厚膜加熱裝置上。