[發明專利]一種調整硝酸滴加濃度的多晶硅預處理方法有效
| 申請號: | 201310289793.9 | 申請日: | 2013-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN103344471A | 公開(公告)日: | 2013-10-09 |
| 發明(設計)人: | 譚毅;劉瑤;劉鑫業 | 申請(專利權)人: | 青島隆盛晶硅科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N1/28 | 分類號: | G01N1/28 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 266234 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 調整 硝酸 濃度 多晶 預處理 方法 | ||
1.一種調整硝酸滴加濃度的多晶硅預處理方法,其特征在于,步驟如下:
(1)稱取多晶硅樣品0.1-0.5g于PTFE燒杯中;
(2)將1%甘露醇溶液0.3-1.0ml加入PTFE燒杯使多晶硅樣品浸潤;
(3)將質量分數為49%的氫氟酸3.0-5.0ml加入PTFE燒杯中;
(4)加入0.5-1.0ml質量分數為35%的硝酸,再加入1.0-2.0ml質量分數為70%的硝酸,反應至多晶硅樣品完全消溶;
(5)控制溫度使硅揮發,定容后調節酸度,檢測雜質含量,操作結束。
2.根據權利要求1所述的一種調整硝酸滴加濃度的多晶硅預處理方法,其特征在于步驟(4)中硝酸的加入速度為0.2-0.5ml/min。
3.根據權利要求1所述的一種調整硝酸滴加濃度的多晶硅預處理方法,其特征在于步驟(5)中控制溫度在80-100℃。
4.根據權利要求1所述的一種調整硝酸滴加濃度的多晶硅預處理方法,其特征在于步驟(5)中酸度為5%。
5.根據權利要求1所述的一種調整硝酸滴加濃度的多晶硅預處理方法,其特征在于步驟(5)采用ICP-AES或ICP-MS檢測多晶硅中的雜質含量。
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