[發(fā)明專利]光器件以及光器件的加工方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310287638.3 | 申請(qǐng)日: | 2013-07-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103545409B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-01-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 岡村卓;荒川太郎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社迪思科 |
| 主分類號(hào): | H01L33/20 | 分類號(hào): | H01L33/20;H01L33/00;B23K26/36;B23K26/40 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 黨曉林;王小東 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 器件 以及 加工 方法 | ||
1.一種光器件的加工方法,該光器件具有:具有發(fā)光層的四邊形的表面;與該表面平行的四邊形的背面;以及連接該表面和該背面的第1側(cè)面至第4側(cè)面,該第1側(cè)面至第4側(cè)面相對(duì)于該表面的垂直線傾斜彼此相同的角度,從上述表面到上述背面的截面形狀為平行四邊形,其特征在于,該光器件的加工方法具有:
晶片準(zhǔn)備步驟,準(zhǔn)備光器件晶片,上述光器件晶片在表面具有發(fā)光層并設(shè)定有多條交叉的分割預(yù)定線,在該發(fā)光層的由該分割預(yù)定線劃分出的各區(qū)域分別具有光器件;
傾斜面設(shè)定步驟,根據(jù)所述分割預(yù)定線、所述角度和所述光器件的厚度,在光器件晶片設(shè)定與上述光器件的上述第1側(cè)面至第4側(cè)面相對(duì)應(yīng)的多個(gè)作為平面的傾斜面;
激光加工步驟,在實(shí)施了上述傾斜面設(shè)定步驟后,沿著上述傾斜面照射相對(duì)于光器件晶片具有吸收性的波長(zhǎng)的一個(gè)激光光束,從而形成沿著通過(guò)上述傾斜面設(shè)定步驟設(shè)定的上述傾斜面的激光加工槽;以及
分割步驟,在實(shí)施了上述激光加工步驟后,對(duì)光器件晶片施加外力以將光器件晶片分割為一個(gè)個(gè)光器件,
其中,在激光加工步驟中,在使聚光器與所述傾斜面平行的狀態(tài)下對(duì)上述光器件晶片照射激光光束。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L33-00 至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的專門(mén)適用于光發(fā)射的半導(dǎo)體器件;專門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或設(shè)備;這些半導(dǎo)體器件的零部件
H01L33-02 .以半導(dǎo)體為特征的
H01L33-36 .以電極為特征的
H01L33-44 .以涂層為特征的,例如鈍化層或防反射涂層
H01L33-48 .以半導(dǎo)體封裝體為特征的
H01L33-50 ..波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換元件
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