[發(fā)明專利]一種以聚合物為模板形成雙層有序排列納米顆粒的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310279774.8
• 申請日: 2013-07-04
• 公開（公告）號: CN103373703A
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 魯從華;趙陽
• 申請（專利權(quán)）人: 天津大學(xué)
• 主分類號: B82B3/00
• 分類號: B82B3/00;B82Y30/00
• 代理公司: 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 12201
• 代理人: 李麗萍

1.一種以聚合物為模板形成雙層有序排列納米粒子的方法，包括以下步驟：

步驟一、將硅片依次用蒸餾水、無水乙醇超聲30min，然后置于75℃的H₂O₂:NH₃·H₂O:H₂O的體積比為1：1：5的混合溶液中，沸騰10min，用蒸餾水清洗數(shù)次備用；

步驟二、將質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.5wt%的PS-b-PVP的甲苯混合溶液旋涂在經(jīng)過步驟一處理的硅基底上，形成聚合物薄膜，膜厚為20nm；

步驟三、將由步驟二制備好的旋涂有聚合物薄膜的硅基底依次放入不同鏈段的良溶劑的飽和蒸汽中溶劑誘導(dǎo)2～5h、乙醇中浸泡30min，真空干燥1h；

步驟四、將質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.5wt%的氯金酸的乙醇溶液旋涂在經(jīng)步驟三真空干燥過的硅基底上；

步驟五、將步驟四所得的硅基底放入氧等離子體清洗器中真空脫氣1h，利用氧等離子清洗器的清洗功能將硅基底上的聚合物薄膜除去，并將氯金酸中的Au³⁺轉(zhuǎn)換成金納米粒子，在硅基底上形成有序排列的金納米粒子陣列；

步驟六、依次重復(fù)一遍上述步驟二、三、四、五，從而實現(xiàn)兩次有序金納米粒子陣列的疊加。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述以聚合物為模板形成雙層有序排列納米粒子的方法，其中，步驟三中，若良溶劑為PS鏈段良溶劑甲苯，則誘導(dǎo)5h，若良溶劑為P₂VP鏈段良溶劑THF，則誘導(dǎo)2h。