[發明專利]一種用于光催化的氧化鋅摻雜氧化鈦薄膜的制備方法

有效

• 申請號: 201310264270.9
• 申請日: 2013-06-28
• 公開（公告）號: CN103361631A
• 公開（公告）日: 2013-10-23
• 發明（設計）人: 姜來新;尹桂林;何丹農
• 申請（專利權）人: 上海納米技術及應用國家工程研究中心有限公司
• 主分類號: C23C16/40
• 分類號: C23C16/40
• 代理公司: 上海東方易知識產權事務所 31121
• 代理人: 唐莉莎

1.一種用于光催化的氧化鋅摻雜氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟一，用真空泵將反應腔抽到20hPa以下的低真空并加熱到100～200℃，再用純度為5N的高純氮清洗反應腔；

步驟二，將襯底在高純去離子水中超聲清洗10-30分鐘，用高純氮槍吹干，保持玻璃襯底有清潔的表面；

步驟三，將前驅體四（二甲氨基）鈦通入反應腔脈沖時間3秒，清洗四（二甲氨基）鈦的脈沖時間為8秒；然后通入4秒的水蒸汽脈沖，再用10秒脈沖時間清洗掉多余的水蒸汽，至此完成一個循環的氧化鈦的沉積；

步驟四，將前驅體二乙基鋅通入2秒脈沖時間，清洗脈沖時間為6秒；通入水蒸汽脈沖4秒，清洗脈沖時間10秒，至此完成一個循環的氧化鋅的沉積；

步驟五，多個沉積氧化鈦的循環和1個沉積氧化鋅的循環組成一個大循環，在完成多個大循環后即完成氧化鋅摻雜氧化鈦薄膜沉積過程，然后在450℃的溫度下退火2小時。

2.根據權利要求1所述一種用于光催化的氧化鋅摻雜氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于，步驟二所述的襯底為玻璃、陶瓷、金屬、高分子聚合物中的一種。

3.根據權利要求1所述一種用于光催化的氧化鋅摻雜氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于,?步驟五所述多個沉積氧化鈦的循環數為20-200，所述多個大循環為10-100。