[發明專利]版圖數據的處理方法有效
| 申請號： | 201310258304.3 | 申請日： | 2013-06-26 |
| 公開（公告）號： | CN103309150A | 公開（公告）日： | 2013-09-18 |
| 發明（設計）人： | 張辰明;張旭升;魏芳 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/36 | 分類號： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陸花 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 版圖 數據 處理 方法 | ||
1.一種版圖數據的處理方法，其特征在于包括：
第一步驟：產生包括正方形圖形的初始版圖數據；
第二步驟：對初始版圖數據進行OPC修正；
第三步驟：對經過OPC修正的版圖數據進行掩模板最小規則檢查，以查找出違反掩模板最小規則的正方形圖形；
第四步驟：對經過OPC修正的版圖數據進行修改，使得違反掩模板最小規則的正方形圖形中的至少一部分正方形圖形旋轉特定角度，以形成旋轉后正方形圖形，其中正方形圖形的旋轉以正方形圖形的中心作為旋轉中心。
2.根據權利要求1所述的版圖數據的處理方法，其特征在于，在執行完第四步驟之后再次執行第三步驟，并且在第三步驟中查找出違反掩模板最小規則的正方形圖形的情況下再次執行第四步驟，直到在第三步驟中沒有查找出違反掩模板最小規則的正方形圖形。
3.根據權利要求1或2所述的版圖數據的處理方法，其特征在于，在第四步驟中，正方形圖形旋轉的所述特定角度介于30°至60°之間。
4.根據權利要求1或2所述的版圖數據的處理方法，其特征在于，在第四步驟中，正方形圖形旋轉的所述特定角度介于40°至50°之間。
5.根據權利要求1或2所述的版圖數據的處理方法，其特征在于，在第四步驟中，正方形圖形旋轉的所述特定角度為45°。
6.根據權利要求1或2所述的版圖數據的處理方法，其特征在于，在第四步驟中，對經過OPC修正的版圖數據進行修改，使得違反掩模板最小規則的正方形圖形中的全部正方形圖形旋轉特定角度。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
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