[發(fā)明專利]標(biāo)準(zhǔn)單元版圖的生成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310256440.9
• 申請日: 2013-06-25
• 公開（公告）號: CN103310066A
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳玉平;劉磊;陳天佐;呂志強(qiáng)
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院微電子研究所
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 王寶筠

1.一種標(biāo)準(zhǔn)單元版圖的生成方法，其特征在于，所述方法包括：

根據(jù)有源區(qū)幾何圖形內(nèi)柵陣列的柵長尺寸生成所述有源區(qū)幾何圖形，其中所述柵陣列包括若干個(gè)柵；

根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)單元版圖內(nèi)各個(gè)所述有源區(qū)幾何圖形內(nèi)的柵的位置順序以及所述標(biāo)準(zhǔn)單元版圖內(nèi)相鄰柵之間的分隔關(guān)系生成有源區(qū)接觸孔陣列和所述柵陣列，其中所述有源區(qū)接觸孔陣列包括若干個(gè)有源區(qū)接觸孔組，所述有源區(qū)幾何圖形內(nèi)相鄰兩個(gè)柵之間的所有有源區(qū)接觸孔構(gòu)成一個(gè)所述有源區(qū)接觸孔組；

根據(jù)所述有源區(qū)接觸孔陣列對應(yīng)的第一類引出圖形與該有源區(qū)接觸孔陣列的相對位置尺寸生成所述第一類引出圖形；

根據(jù)所述有源區(qū)接觸孔陣列對應(yīng)的第一類引出圖形生成跳層通孔陣列，所述跳層通孔陣列包括若干個(gè)跳層通孔；

根據(jù)所述柵陣列與所述有源區(qū)幾何圖形的相對位置尺寸以及所述第一類引出圖形生成柵接觸孔陣列，所述柵接觸孔陣列包括若干個(gè)柵接觸孔；

生成所述跳層通孔陣列和所述柵接觸孔陣列對應(yīng)的第二類引出圖形；

生成所述標(biāo)準(zhǔn)單元版圖的引出端口陣列對應(yīng)的第三類引出圖形，其中所述引出端口陣列包括若干個(gè)引出端口。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)有源區(qū)幾何圖形內(nèi)柵陣列的柵長尺寸所述有源區(qū)幾何圖形前，所述方法還包括獲取所述有源區(qū)接觸孔陣列與所述有源區(qū)幾何圖形的邊緣的相對位置尺寸，包括以下步驟：

獲取所述有源區(qū)接觸孔陣列中最左側(cè)的有源區(qū)接觸組的左邊沿距離所述有源區(qū)幾何圖形的左側(cè)邊緣的距離；

獲取所述有源區(qū)接觸孔陣列中最右側(cè)的有源區(qū)接觸組的右邊沿距離所述有源區(qū)幾何圖形的右側(cè)邊緣的距離；

獲取所述有源區(qū)接觸孔陣列中最上側(cè)的有源區(qū)接觸孔組的上邊沿距離所述有源區(qū)幾何圖形的上側(cè)邊緣的距離；

獲取所述有源區(qū)接觸孔陣列中最下側(cè)的有源區(qū)接觸孔組的下邊沿距離所述有源區(qū)幾何圖形的下側(cè)邊緣的距離。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)單元版圖內(nèi)各個(gè)所述有源區(qū)幾何圖形內(nèi)的柵的位置順序以及所述標(biāo)準(zhǔn)單元版圖內(nèi)相鄰柵之間的分隔關(guān)系生成所述有源區(qū)接觸孔陣列和柵陣列前，所述方法還包括獲取所述標(biāo)準(zhǔn)單元版圖內(nèi)相鄰柵之間的分隔關(guān)系，包括以下步驟：

獲取相鄰兩個(gè)所述柵之間的距離；

判斷相鄰兩個(gè)所述柵之間是否存在所述有源區(qū)接觸孔組；

如果是，獲取該有源區(qū)接觸孔組的左邊沿距與該左邊沿相鄰的柵之間的距離以及所述有源區(qū)接觸孔組的右邊沿距與該右邊沿相鄰的柵之間的距離；

獲取所述有源區(qū)接觸孔組的圖形參數(shù)，所述圖形參數(shù)為所述有源區(qū)接觸孔組的整體尺寸參數(shù)；

獲取所述有源區(qū)接觸孔組的上邊沿與所述有源區(qū)幾何圖形的上邊緣之間的距離；

獲取所述有源區(qū)接觸孔組的下邊沿與所述有源區(qū)幾何圖形的下邊緣之間的距離。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述獲取所述有源區(qū)接觸孔組的圖形參數(shù)，包括：

獲取所述有源區(qū)接觸孔組中的各個(gè)接觸孔的橫向尺寸和縱向尺寸；

獲取所述有源區(qū)接觸孔組中相鄰兩個(gè)有源區(qū)接觸孔之間的橫向間距和縱向間距；

獲取所述有源區(qū)接觸孔組中的所述有源區(qū)接觸孔的行數(shù)目和列數(shù)目。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)單元版圖內(nèi)各個(gè)所述有源區(qū)幾何圖形內(nèi)的柵的位置順序以及所述標(biāo)準(zhǔn)單元版圖內(nèi)相鄰柵之間的分隔關(guān)系生成所述有源區(qū)接觸孔陣列和柵陣列前，所述方法還包括：

獲取所述柵陣列中最左側(cè)的柵的左邊沿與所述有源區(qū)幾何圖形的左側(cè)邊緣之間的距離；

獲取所述柵陣列中最右側(cè)的柵的右邊沿與所述有源區(qū)幾何圖形的右側(cè)邊緣之間的距離；

獲取所述柵陣列中最上側(cè)的柵的上邊沿與所述有源區(qū)幾何圖形的上側(cè)邊緣之間的距離；

獲取所述柵陣列中最下側(cè)的柵的下邊沿與所述有源區(qū)幾何圖形的下側(cè)邊緣之間的距離。