[發明專利]一種耐高等鹽霧腐蝕的本色陽極氧化薄膜處理工藝

無效

• 申請號: 201310253520.9
• 申請日: 2013-06-24
• 公開（公告）號: CN103276430A
• 公開（公告）日: 2013-09-04
• 發明（設計）人: 王世龍
• 申請（專利權）人: 上海英匯科技發展有限公司
• 主分類號: C25D11/04
• 分類號: C25D11/04
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 王敏杰

1.一種耐高等鹽霧腐蝕的本色陽極氧化薄膜處理工藝，其特征在于：其工藝步驟包括，（1）上料；（2）堿蝕；（3）雙聯水洗；（4）水洗；（5）化學拋光；（6）雙聯水洗；（7）水洗；（8）出光；（9）水洗；（10）水洗；（11）純水洗；（12）陽極氧化；（13）水洗；（14）水洗；（15）純水洗；（16）鎳鹽封孔；（17）雙聯水洗；（18）純水洗；（19）鈍化；（20）雙聯水洗；（21）水洗；（22）純水洗；（23）烘干；（24）下料。

2.根據權利要求1所述的耐高等鹽霧腐蝕的本色陽極氧化薄膜處理工藝，其特征在于：所述的步驟（2）堿蝕工序中，槽液成分為40-90g/L的NaOH以及濃度為8-15g/L的NaNO3，溫度為60±5℃，處理時間為1-3分鐘；它是通過皂化反應去以除制品表面的油污、自然氧化層、表面輕微劃痕等，從而獲得較為干凈的表面效果。

3.根據權利要求1所述的耐高等鹽霧腐蝕的本色陽極氧化薄膜處理工藝，其特征在于：所述的步驟（5）化學拋光工序中，以H₃PO₄和H₂SO₄按體積4-5:1配制，溫度95±5℃，處理時間為30-180秒；它是通過兩酸在高溫下的強烈化學反應，清除制品表面油污、對表面起整平作用，并達到鏡面拋光效果。

4.根據權利要求1所述的耐高等鹽霧腐蝕的本色陽極氧化薄膜處理工藝，其特征在于：所述的步驟（8）出光工序中，使用濃度為100-300g/L的HNO₃，溫度為常溫，處理時間為2-5分鐘，它是利用硝酸強氧化性和強酸性作用，將制品在化學拋光時殘留的黑色掛灰如硅、鐵、錳等，與化拋拋光配合使用以達到出光作用。

5.根據權利要求1或2或3或4所述的耐高等鹽霧腐蝕的本色陽極氧化薄膜處理工藝，其特征在于：所述的步驟（12）陽極氧化工序中，使用濃度為170-190g/l的H₂SO₄，溫度14-18℃，電流密度1.3-2A/dm²，氧化時間在15-25分鐘，以生成性能優良的致密氧化膜。

6.根據權利要求1或2或3或4所述的耐高等鹽霧腐蝕的本色陽極氧化薄膜處理工藝，其特征在于：所述的步驟（19）鈍化工序中，使用濃度為15-25%的杭州賽德克650鈍化處理劑，溫度RT-45℃，pH值2.5-3.9，處理時間：3-6分鐘，對經過封閉的陽極氧化膜經行鈍化處理，以增強氧化膜的耐腐蝕性。

7.根據權利要求6所述的耐高等鹽霧腐蝕的本色陽極氧化薄膜處理工藝，其特征在于：所述的鈍化處理劑需用純水配制，在使用該鈍化處理劑前的最后一道水洗的pH值在3.5-4.5之間，以免對槽液的pH影響過大；鈍化之后，為進一步提高效果應以50-60度的溫度烘烤10-30分鐘。

8.根據權利要求1或2或3或4所述的耐高等鹽霧腐蝕的本色陽極氧化薄膜處理工藝，其特征在于：所述的步驟（16）鎳鹽封孔工序中，使用濃度為5-9g/l的昆山路德維格鎳鹽封孔劑，溫度85±5℃，處理時間為10-30分鐘；溶液需要循環攪拌并過濾，避免氣泡或雜質附著在產品表面造成局部未封孔或封孔不良。

9.根據權利要求1或2或3或4所述的耐高等鹽霧腐蝕的本色陽極氧化薄膜處理工藝，其特征在于：所述的步驟（2）-（8）工序為前處理工藝，以制備符合要求的外觀，若表面要求啞光則相應加長步驟（2）工序的處理時間，同時減少或者免除步驟（9）工序的處理時間；若表面要求亮光則相應減少步驟（2）工序的處理時間，同時延長步驟（9）工序的處理時間。