[發明專利]一種靶材的刻蝕量測裝置及量測方法

有效

• 申請號: 201310250728.5
• 申請日: 2013-06-21
• 公開（公告）號: CN103322900A
• 公開（公告）日: 2013-09-25
• 發明（設計）人: 傅品正;陳招睦
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G01B7/26
• 分類號: G01B7/26
• 代理公司: 廣東廣和律師事務所 44298
• 代理人: 劉敏

1.一種靶材的刻蝕量測裝置，其特征在于，所述靶材的刻蝕量測裝置包括導軌(400)、定位部件(600)及刻蝕深度量測部件(500)，所述刻蝕深度量測部件(500)以與所述導軌(400)相對移動的方式設置在所述導軌(400)上，所述定位部件(600)設置在所述導軌(400)的兩側以支撐所述導軌(400)。

2.根據權利要求1所述的靶材的刻蝕量測裝置，其特征在于，所述刻蝕深度量測部件(500)包括用于量測靶材(100)的刻蝕深度(h)的深度計。

3.根據權利要求1所述的靶材的刻蝕量測裝置，其特征在于，所述定位部件(600)包括磁性件(200)。

4.根據權利要求3所述的靶材的刻蝕量測裝置，其特征在于，所述磁性件(2()())包括磁石或電磁鐵。

5.根據權利要求1所述的靶材的刻蝕量測裝置，其特征在于，所述靶材的刻蝕量測裝置還包括連接在所述定位部件(600)與所述導軌(400)之間及連接在所述刻蝕深度量測部件(500)與所述導軌(400)之間的連接件(700)。

6.根據權利要求5所述的靶材的刻蝕量測裝置，其特征在于，所述導軌(400)的底側設有沿所述導軌(400)的長度方向(X)延伸的滑槽(430)。

7.根據權利要求6所述的靶材的刻蝕量測裝置，其特征在于，所述滑槽(430)具有滑動容納部(432)及夾持部(434)，所述連接件(700)的上部設有與所述滑動容納部(432)匹配的凸緣(732)，所述夾持部(434)位于所述滑動容納部(432)的下方并用于保持所述凸緣(732)。

8.根據權利要求7所述的靶材的刻蝕量測裝置，其特征在于，所述連接件(700)的上部設有具有向上運動趨勢的彈性件(740)，所述滑槽(430)沿所述導軌(400)的長度方向(X)均勻布置有多個定位孔(440)，所述彈性件(740)與所述多個定位孔(440)相適配。

9.根據權利要求1所述的靶材的刻蝕量測裝置，其特征在于，所述彈性件(740)為彈簧定位銷。

10.一種靶材的刻蝕量測方法，其特征在于，所述靶材的刻蝕量測方法包括以下步驟：

定位步驟(S1)，通過定位部件(600)將刻蝕深度量測部件(500)定位在靶材(100)的正上方，

導軌長度方向(X)量測步驟(S2)，沿導軌長度方向(X)移動刻蝕深度量測部件(500)，對靶材(100)的刻蝕深度(h)進行量測。