[發明專利]薄膜沉積裝置以及使用該薄膜沉積裝置的薄膜沉積方法

有效

• 申請號: 201310246571.9
• 申請日: 2013-06-20
• 公開（公告）號: CN103866237B
• 公開（公告）日: 2018-04-06
• 發明（設計）人: 姜聲鐘
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司11018
• 代理人: 張紅霞,周艷玲

相關申請的交叉引用

本申請要求于2012年12月13日在韓國知識產權局提交的名稱為“薄膜沉積裝置以及使用該薄膜沉積裝置的薄膜沉積方法”的韓國專利申請第10-2012-0145711號的優先權，其作為一個整體通過引用合并于此。

技術領域

各實施例涉及一種薄膜沉積裝置以及使用該薄膜沉積裝置的薄膜沉積方法。

背景技術

薄膜制造過程可被用于形成例如作為有機發光顯示器件的封裝體的薄膜。沉積方法可包括產生沉積源的蒸氣，從而使沉積源的材料被附著到基板的表面上。

發明內容

各實施例的目的在于一種薄膜沉積裝置，包括：沉積源和角度限制板，該沉積源經由噴射孔朝向基板噴射沉積蒸氣，該角度限制板被布置為鄰近所述噴射孔，以便在設定范圍內限制從所述噴射孔噴射所述沉積蒸氣的角度。所述角度限制板可包括相對于所述噴射孔被固定的固定限制板和相對于所述噴射孔能移動的能移動限制板。

所述固定限制板和所述能移動限制板均可被布置為鄰近所述噴射孔，以便在設定范圍內限制從所述噴射孔噴射所述沉積蒸氣的所述角度，并且所述能移動限制板可被布置為能夠相對于所述固定限制板滑動。

所述能移動限制板可被滑動地布置在所述固定限制板的內壁上。

所述能移動限制板可包括能夠獨立滑動的多個能移動限制板。

所述多個能移動限制板和所述固定限制板可被布置為，使由所述多個能移動限制板和所述固定限制板形成的開口的尺寸根據所設定的噴射角向外增大。

所述裝置可進一步包括驅動所述能移動限制板的致動器。

各實施例目的還在于一種沉積薄膜的方法，該方法包括：提供角度限制板，該角度限制板被布置在沉積源的噴射孔附近，以便將噴射沉積蒸氣的角度限制到設定范圍內的角度，所述角度限制板包括相對于所述噴射孔被固定的固定限制板和相對于所述噴射孔能移動的能移動限制板；以通過使用所述能移動限制板限制的噴射角執行第一沉積；重新定位所述能移動限制板，以便從用于限制所述噴射角的位置移出；以及以通過使用所述固定限制板限制的所述噴射角執行第二沉積。

通過沿所述固定限制板的內壁滑動所述能移動限制板，所述能移動限制板可被移動。

所述能移動限制板可包括能夠獨立滑動的多個能移動限制板。

所述多個能移動限制板和所述固定限制板可被布置使得為，由所述多個能移動限制板和所述固定限制板形成的開口的尺寸根據所設定的噴射角向外增大，并且自最內部的能移動限制板開始，通過依次使用所述最內部的能移動限制板至所述固定限制板執行所述噴射角的限制，所述固定限制板位于最外部。

通過使用致動器可移動所述能移動限制板。

附圖說明

通過參照附圖詳細描述各示例實施例，各特征對本領域技術人員將變得明顯，其中：

圖1為根據示例實施例的薄膜沉積裝置的剖視圖；

圖2為顯示圖1所示薄膜沉積裝置中的能移動限制板的驅動機構的示意圖；以及

圖3A至圖3C為顯示使用圖1所示薄膜沉積裝置的實例的示意圖。

具體實施方式

在下文中現在將參照附圖更充分地描述各示例實施例；然而，這些示例實施例可以不同的形式實施，并且不應該被認為限于在此提出的實施例。相反，這些實施例被提供以使本公開將為全面和完整的，并且將這些示例實施例的范圍充分地傳達給本領域技術人員。

在附圖中，各尺寸為例示清楚可被夸大。將會理解，當元件被提及為在另一元件“上”時，其可直接在另一元件上，或者也可存在一個或更多中間元件。還將理解，當元件被提及為在另一元件“下方”時，其可直接在下方，或者也可存在一個或更多中間元件。還將理解，當元件被提及為在兩個元件“之間”時，其可為這兩個元件之間的唯一元件，或者還可存在一個或更多中間元件。相似的附圖標記始終指代相似的元件。

圖1為根據示例實施例的薄膜沉積裝置的剖視圖，圖2為顯示下面描述的能移動限制板320的驅動機構的示意圖。

在圖1和圖2所示的示例實施例中，薄膜沉積裝置包括室100和沉積源200，基板10（沉積靶）被固定在室100內，沉積源200于室100內在基板10下方掃描移動并噴射沉積蒸氣。在沉積開始時，沉積源200噴射沉積蒸氣，并且所噴射的沉積蒸氣被沉積到基板10上并形成薄膜。

在本示例實施例中，角度限制板300被布置為用于限制沉積蒸氣從沉積源200被噴射的角度的部件。因而，沉積蒸氣僅可通過由角度限制板300限制的開口飛向基板10，由此限制沉積區域。