[發明專利]薄膜沉積裝置以及使用該薄膜沉積裝置的薄膜沉積方法

有效

• 申請號: 201310246571.9
• 申請日: 2013-06-20
• 公開（公告）號: CN103866237B
• 公開（公告）日: 2018-04-06
• 發明（設計）人: 姜聲鐘
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司11018
• 代理人: 張紅霞,周艷玲

1.一種薄膜沉積裝置，包括：

沉積源，該沉積源經由噴射孔朝向基板噴射沉積蒸氣；和

角度限制板，該角度限制板被布置為鄰近所述噴射孔，以便在設定范圍內限制從所述噴射孔噴射所述沉積蒸氣的角度，

其中所述角度限制板包括相對于所述噴射孔被固定的固定限制板和相對于所述噴射孔能移動的能移動限制板，

其中所述能移動限制板包括能夠獨立滑動的多個能移動限制板。

2.如權利要求1所述的薄膜沉積裝置，其中:

所述固定限制板和所述能移動限制板均被布置為鄰近所述噴射孔，以便在設定范圍內限制從所述噴射孔噴射所述沉積蒸氣的所述角度，并且

所述能移動限制板被布置為能夠相對于所述固定限制板滑動。

3.如權利要求2所述的薄膜沉積裝置，其中所述能移動限制板被滑動地布置在所述固定限制板的內壁上。

4.如權利要求1所述的薄膜沉積裝置，其中所述多個能移動限制板和所述固定限制板被布置為，使由所述多個能移動限制板和所述固定限制板形成的開口的尺寸根據所設定的噴射角向外增大。

5.如權利要求1所述的薄膜沉積裝置，進一步包括驅動所述能移動限制板的致動器。

6.一種沉積薄膜的方法，該方法包括：

提供角度限制板，該角度限制板被布置在沉積源的噴射孔附近，以便將噴射沉積蒸氣的角度限制到設定范圍內的角度，所述角度限制板包括相對于所述噴射孔被固定的固定限制板和相對于所述噴射孔能移動的能移動限制板；

以通過使用所述能移動限制板限制的噴射角執行第一沉積；

重新定位所述能移動限制板，以便從用于限制所述噴射角的位置移出；以及

以通過使用所述固定限制板限制的所述噴射角執行第二沉積，

其中所述能移動限制板包括能夠獨立滑動的多個能移動限制板。

7.如權利要求6所述的沉積薄膜的方法，其中，通過沿所述固定限制板的內壁滑動所述能移動限制板，所述能移動限制板被移動。

8.如權利要求6所述的沉積薄膜的方法，其中：

所述多個能移動限制板和所述固定限制板被布置為，使由所述多個能移動限制板和所述固定限制板形成的開口的尺寸根據所設定的噴射角向外增大，并且

自最內部的能移動限制板開始，通過依次使用所述最內部的能移動限制板至所述固定限制板執行所述噴射角的限制，所述固定限制板位于最外部。

9.如權利要求6所述的沉積薄膜的方法，其中通過使用致動器移動所述能移動限制板。