[發(fā)明專利]再造耳廓位置的定位方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310245626.4 | 申請日: | 2013-06-20 |
| 公開(公告)號: | CN103284834A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蘇法仁 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇法仁 |
| 主分類號: | A61F11/00 | 分類號: | A61F11/00;A61F2/50 |
| 代理公司: | 濟南泉城專利商標(biāo)事務(wù)所 37218 | 代理人: | 張貴賓 |
| 地址: | 250014 山東省濟南市歷下*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 再造 耳廓 位置 定位 方法 | ||
(一)????????技術(shù)領(lǐng)域
????本發(fā)明涉及到先天性小耳畸形、耳廓缺損患者再造耳廓位置的定位,在耳廓重建中的應(yīng)用,特別涉及一種再造耳廓位置的定位方法。
(二)????????背景技術(shù)
缺耳是日常生活中的常見疾病,究其原因可分為先天性和后天性兩類,前者多見于先天性外耳發(fā)育不良、小耳畸形、無外耳,后者多見于外傷、感染、腫瘤等導(dǎo)致,患者外觀異于常人,易遭受歧視和嘲笑,嚴(yán)重影響正常生活,久之易導(dǎo)致嚴(yán)重心理疾病,尤其是對于先天性小耳畸形的兒童,患者十分痛苦,修復(fù)或再造的愿望十分迫切。
現(xiàn)有技術(shù)中,耳廓再造技術(shù)有義耳再造、假體再造及自體肋軟骨再造。以往再造的耳廓在安裝中,位置的選擇只能靠目測的方法,沒有成形準(zhǔn)確的定位方法,這樣的話再造耳廓的前后、左右、上下位置,很難與鍵側(cè)耳廓一致。以往有人用:以眉弓及鼻翼形成的兩條直線向后延伸與乳突前緣直線相交,兩個交點間隔為再造耳廓長軸位置及長度。其大小參照正常人耳,長為5.5~6.5cm、寬為3.0~3.5cm,也只是粗略的定位方法。
現(xiàn)有技術(shù)缺點:大部分耳畸形患者同時伴有頜面部發(fā)育不全,患側(cè)面部狹小、頜面部左右不對稱,如果利用現(xiàn)有技術(shù)來定位患側(cè)耳廓位置,則會出現(xiàn)較大誤差,影響美觀。
(三)????????發(fā)明內(nèi)容
????本發(fā)明為了彌補現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供了一種步驟簡單、操作方便的再造耳廓位置的定位方法。
本發(fā)明是通過如下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
一種再造耳廓位置的定位方法,其特征在于:以健耳耳輪腳前緣、耳屏前緣和耳垂前緣三點為一垂直直線為基礎(chǔ),沿該垂直直線在人的頭部表面畫出該直線所在的冠狀切面的切邊,使人的頭部處于端正的狀態(tài),在人頭部上畫出垂直冠狀切面的健耳耳輪腳前緣、耳屏前緣和耳垂前緣所在的水平定位線,該定位線線與切邊的交點即為患側(cè)再造耳廓的耳輪腳前緣、耳屏前緣和耳垂前緣的固定位置。
本發(fā)明利用健耳耳輪腳前緣、耳屏前緣和耳垂前緣三點為一垂直直線以及人的頭部存在冠狀切面的原理,通過在人的頭部表面作圖,標(biāo)注出耳廓關(guān)鍵點位置的方式對再造耳廓進(jìn)行定位,實現(xiàn)了簡單、快速、準(zhǔn)確的定位,提高了定位的準(zhǔn)確性和工作效率。
本發(fā)明的更優(yōu)方案為:
所述健耳耳垂下緣所在的水平定位線的所在高度即為再造耳廓耳垂的最下緣,除了對再造耳廓的位置進(jìn)行進(jìn)一步定位外,還可根據(jù)耳輪腳前緣、耳屏前緣、耳垂前緣和耳垂最下緣的位置對耳朵的大小比例進(jìn)行確定,保證了再造耳廓選取比例的正確性。
依據(jù)本專利技術(shù)行再造耳廓定位,可根據(jù)不同患者進(jìn)行個性化定制,使得再造耳廓的位置自然、對稱、美觀,與健側(cè)耳廓匹配。
本發(fā)明步驟簡單,操作方便,定位準(zhǔn)確無誤差,定位過程中對人體沒有損害和影響,所需工具更為容易獲得,適于廣泛推廣應(yīng)用。
(四)????????附圖說明
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。
圖1為本發(fā)明的定位方式示意圖。
圖中,A耳輪腳前緣,B耳屏前緣,C耳垂下緣,D切邊,E耳垂前緣。
(五)????????具體實施方式
附圖為本發(fā)明的一種具體實施例。該實施例以健耳耳輪腳前緣A、耳屏前緣B和耳垂前緣E三點為一垂直直線為基礎(chǔ),沿該垂直直線在人的頭部表面畫出該直線所在的冠狀切面的切邊D,使人的頭部處于端正的狀態(tài),在人頭部上畫出垂直冠狀切面的健耳耳輪腳前緣A、耳屏前緣B和耳垂前緣E所在的水平定位線,該定位線線與切邊D的交點即為患側(cè)再造耳廓的耳輪腳前緣A、耳屏前緣B和耳垂前緣E的固定位置;所述健耳耳垂下緣C所在的水平定位線所在高度即為再造耳廓耳垂的最下緣。
在定位的過程中,只要使用較為簡單的畫線工具即可,沿人的頭部作出冠狀切面的切邊,并通過健耳耳輪腳前緣A、耳屏前緣B和耳垂前緣E所在的水平定位線與切邊D的交點確認(rèn)出相應(yīng)的位置,操作簡便,準(zhǔn)確性高。
對于雙側(cè)小耳畸形,可以先再造一側(cè)耳廓,然后再根據(jù)做好的耳廓用上面的方法定位另一側(cè)耳廓的位置即可。
本發(fā)明專利解決了耳廓畸形與缺損患者的再造耳廓位置的定位問題,從而解決了耳整形外科中再造耳廓定位難題。
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