[發(fā)明專利]再造耳廓位置的定位方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310245626.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-06-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103284834A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蘇法仁 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇法仁 |
| 主分類號(hào): | A61F11/00 | 分類號(hào): | A61F11/00;A61F2/50 |
| 代理公司: | 濟(jì)南泉城專利商標(biāo)事務(wù)所 37218 | 代理人: | 張貴賓 |
| 地址: | 250014 山東省濟(jì)南市歷下*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 再造 耳廓 位置 定位 方法 | ||
1.一種再造耳廓位置的定位方法,其特征在于:以健耳耳輪腳前緣(A)、耳屏前緣(B)和耳垂前緣(E)三點(diǎn)為一垂直直線為基礎(chǔ),沿該垂直直線在人的頭部表面畫出該直線所在的冠狀切面的切邊(D),使人的頭部處于端正的狀態(tài),在人頭部上畫出垂直冠狀切面的健耳耳輪腳前緣(A)、耳屏前緣(B)和耳垂前緣(E)所在的水平定位線,該定位線線與切邊(D)的交點(diǎn)即為患側(cè)再造耳廓的耳輪腳前緣(A)、耳屏前緣(B)和耳垂前緣(E)的固定位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再造耳廓位置的定位方法,其特征在于:所述健耳耳垂下緣(C)所在的水平定位線所在高度即為再造耳廓耳垂的最下緣。
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