[發明專利]一種納米二氧化鈦薄膜的制備方法

有效

• 申請號: 201310245510.0
• 申請日: 2013-06-20
• 公開（公告）號: CN103332870A
• 公開（公告）日: 2013-10-02
• 發明（設計）人: 萬曄;王秀梅;王晴
• 申請（專利權）人: 沈陽建筑大學
• 主分類號: C03C17/23
• 分類號: C03C17/23
• 代理公司: 沈陽杰克知識產權代理有限公司 21207
• 代理人: 李宇彤

1.一種納米二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：將清洗過的玻璃器皿和石英玻璃基片放入恒溫真空干燥箱中烘干，將分析純的無水乙醇和乙酰丙酮置于反應釜中混合均勻，然后加入正鈦酸乙酯，得到均勻透明的溶液，在室溫下用恒溫磁力攪拌器攪拌溶液，待混合均勻后，繼續滴加少量的去離子水和無水乙醇的混合溶液，磁力攪拌，獲得穩定、均勻、清澈透明的黃色凝膠，靜置后，采用提拉機在潔凈的石英玻璃片上提拉成膜，將成膜后的石英玻璃片在馬弗爐中預熱處理，隨后在預先設定的溫度下煅燒、退火，得到納米二氧化鈦薄膜，采用采用空冷方式冷卻至室溫。

2.根據權利要求1所述的一種納米二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：將玻璃器皿和石英玻璃基片連續用堿洗液和酸洗液分別超聲清洗兩遍，每遍至少10分鐘，將堿洗和酸洗后的玻璃容器和石英玻璃基片用去離子水超聲漂洗10分鐘，再用分析純的無水乙醇超聲清洗至少10分鐘。

3.根據權利要求2所述的一種納米二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：堿洗液是0.01?mol/L的氨水溶液，酸洗液是0.01?mol/L的鹽酸溶液。

4.根據權利要求1所述的一種納米二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：恒溫真空干燥箱的溫度是100℃。

5.根據權利要求要求1所述的一種納米二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：預先設定的煅燒、退火溫度為升溫速率每小時50℃，在500℃保溫1小時后空冷至350℃保溫1小時，最后空冷至室溫。

6.根據權利要求1所述的一種納米二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：提拉成膜之前的所有在溶液中進行的過程均是在磁力攪拌條件下進行的。

7.根據權利要求2所述的一種納米二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：上述的堿洗液采用去離子水稀釋的過氧化氫和氨水配制。

8.根據權利要求2所述的制備方法，一種納米二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：上述的酸洗液采用去離子水稀釋的過氧化氫和鹽酸配制。