[發明專利]曝光系統與曝光方法

有效

• 申請號: 201310241397.9
• 申請日: 2013-06-18
• 公開（公告）號: CN104238272B
• 公開（公告）日: 2017-02-01
• 發明（設計）人: 高克毅;陳贊仁;高振寬;李建興
• 申請（專利權）人: 群創光電股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02F1/1333
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 董惠石

技術領域

本發明涉及一種曝光系統與曝光方法。

背景技術

隨著科技的進步，平面顯示裝置已經廣泛的被運用在各種領域，尤其是液晶顯示裝置，因具有體型輕薄、低功率消耗及無輻射等優越特性，已經漸漸地取代傳統陰極射線管顯示裝置，而應用至許多種類的電子產品中，例如行動電話、可攜式多媒體裝置、筆記型電腦、液晶電視及液晶螢幕等等。

目前液晶顯示裝置的制造業者在提升薄膜電晶體液晶顯示裝置(TFT?LCD)的廣視角技術(Multi-domain?Vertical?Alignment，MVA)上，聚合物穩定配向(或稱聚合物持續配向，Polymer?Sustained?Alignment，PSA)是一種用以提升開口率與對比等光學性能的成熟及量產的技術。其中，PSA技術是在面板的液晶滴入(One?DropFilling，ODF)制造工藝中，混合一光反應性單體(monomer)后通電，并進行紫外光曝光照射，使液晶分子內的光反應性單體硬化，并使硬化后的單體依據薄膜電晶體基板上的一圖案化透明導電層的圖案進行排列，以透過此硬化單體來達到使液晶配向的目的。

其中，PSA技術所使用的曝光系統為曝光設備成本中最高的部分，然而，目前業界所使用的曝光系統的設計都是一組曝光機搭配一個面板平臺(stage)來進行曝光作業(平臺用以承載組立面板，assembly?cell)，因此，曝光的工站時間(Tact?time)都浪費在組立面板的非真正曝光時間上，例如浪費在面板的交換、對位或曝光前扎針及通電程序等，造成曝光機無法被充分、有效地利用，導致為了增加產能時，需投資更多的曝光系統及廠房設置空間，使得生產線建置成本相對增加很多，造成液晶顯示裝置的生產成本提高而使產品的競爭力下降。

因此，如何提供一種曝光系統及曝光方法，可有效利用曝光系統而降低曝光的工站時間，以降低設備設置成本而提升產品的競爭力，己成為重要課題之一。

發明內容

為了解決前述現有技術中上述難題，本發明提供了一種可有效利用曝光系統而降低曝光制造工藝的工站時間，以降低設備設置成本而提升產品的競爭力的曝光系統與曝光方法。

本發明為解決其技術問題采用的技術方案是：一種曝光系統，是對組立面板進行的曝光制造工藝，組立面板具有一第一基板、一第二基板及一液晶層，液晶層夾置于第一基板與第二基板之間，曝光系統包括一傳輸裝置、二移動平臺以及一光源模組。該二移動平臺設置于傳輸裝置上，并對應承載組立面板。光源模組具有至少一發光元件。傳輸裝置移動該二移動平臺的至少其中之一或移動光源模組，以使發光元件所發出的光線照射于組立面板上。

為達上述目的，依據本發明的一種曝光方法，其中組立面板與一曝光系統配合，組立面板具有一第一基板、一第二基板及一液晶層，液晶層夾置于第一基板與第二基板之間，曝光系統包含一傳輸裝置、二移動平臺及一光源模組，該等移動平臺設置于傳輸裝置上，并對應承載組立面板，光源模組具有至少一發光元件，曝光制造工藝包括：透過傳輸裝置移動該等移動平臺的至少其中之一或移動光源模組；以及透過發光元件發出光線照射于組立面板上。

在一實施例中，組立面板更具有一光反應單體材料，第一基板及第二基板分別具有一高分子薄膜，光反應單體材料混合于液晶層或該等高分子薄膜內。

在一實施例中，組立面板更具有一密封材料，密封材料與第一基板及第二基板形成一密閉空間，液晶層設置于密閉空間內。

在一實施例中，該二移動平臺分別對應承載一第一組立面板及一第二組立面板，在進行第一組立面板的曝光制造工藝時，第二組立面板進行面板交換、對位、扎針及通電等工作，在進行第二顯示組立的曝光制造工藝時，第一組立面板進行面板交換、對位、扎針及通電等工作。

在一實施例中，該光源模組透過一固定方式、或一掃描方式、或一搖擺方式對該等組立面板進行曝光制造工藝。

本發明的有益效果是：承上所述，因依據本發明的曝光系統及曝光方法中，是對組立面板進行的曝光制造工藝，其中組立面板具有一第一基板、一第二基板及一液晶層，液晶層夾置于第一基板與第二基板之間。另外，二移動平臺對應承載組立面板。其中，傳輸裝置可移動該等移動平臺的至少其中之一或移動光源模組，以使光源模組所發出的光線照射于組立面板上而完成曝光制造工藝。藉此，由于在本發明的曝光系統及曝光制造工藝中，曝光機并沒有浪費時間在等待組立面板的交換、對位或曝光前扎針及通電等準備工作上，因此，可有效利用曝光系統的光源模組而降低曝光制造工藝的工站時間，進而降低設備設置成本而提升產品的競爭力。