[發明專利]光學測量裝置

有效

• 申請號: 201310237895.6
• 申請日: 2013-06-17
• 公開（公告）號: CN103575657A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發明（設計）人: 王威;顏孟新;周忠誠
• 申請（專利權）人: 明達醫學科技股份有限公司
• 主分類號: G01N21/17
• 分類號: G01N21/17;G01N21/45
• 代理公司: 中國商標專利事務所有限公司 11234
• 代理人: 宋義興;周偉明

技術領域

本發明是關于一種光學測量裝置；具體而言，本發明是關于一種能夠應用于具高反射性物體并降低測量誤差的光學測量裝置。

背景技術

非破壞性檢測(Nondestructive?Testing,NDT)是以不破壞待測物為目的，通過聲音、電波、磁力、光線等媒介(Medium)檢測物體。此外，非破壞性檢測具有不直接碰觸待測物的優點，不僅應用于土木及精密產業，更受生醫領域廣泛使用。一般而言，非破壞性檢測包含超音波檢測、磁粒檢測、紅外線檢測、雷達檢測、光學檢測或其他檢測。實際上，部分檢測方式仍不盡完善，像是媒介能量不足、準確度不高、檢測范圍有限等。

在實際情況中，光學檢測極具發展性，足以彌補上述缺點。此外，研發人員不斷改良光學檢測裝置，期望提升檢測品質，進而擴大測量領域。進一步而論，光學檢測除具有非破壞性檢測以及即時測量的優點外，更具備高精確度。具體而言，光學干涉檢測是為現行常用方法，通過光程差特性以進行各種精密測量。

然而，原用于生醫檢測的光學干涉檢測裝置用于工業領域時，因待測物具有高反射率、不易透光或完全不透光，往往提高測量的困難度，產生較大的測量誤差。綜合上述諸多因素，如何設計兼具有高精確度并適用于各種待測物的光學檢測裝置，尤其能夠測量具高反射率待測物的光學檢測裝置，為本發明的主要貢獻。

發明內容

有鑒于上述現有技術的問題，本發明提出一種能夠用于金屬物并提升檢測良率的光學測量裝置。

于一方面，本發明提供一種具有光學穿透模塊的光學測量裝置，可降低測量誤差。

于一方面，本發明提供一種可調整測量模式的光學測量裝置，以提升檢測良率。

于另一方面，本發明提供一種可降低光反射率的光學測量裝置，能夠測量高反射率待測物。

本發明的一方面在于提供一種光學測量裝置，用于測量物體的表面特性，尤其是包含高反射性表面的物體。光學測量裝置包含光學穿透模塊、光學測量模塊及數據處理模塊。

需說明的是，光學穿透模塊設置于物體的前方并具有至少一光學系數。光學測量模塊傳送至少一光信號穿透光學穿透模塊并射至物體的表面，且經表面反射后的至少一光信號穿透光學穿透模塊而形成回饋信號，光學測量模塊接收回饋信號。數據處理模塊耦接于光學測量模塊，其中數據處理模塊根據回饋信號與至少一光學系數得到表面特性。

在實際應用中，光學測量裝置進一步包含控制模塊，其中控制模塊耦接于數據處理模塊與光學穿透模塊，根據表面特性決定測量模式。換言之，控制模塊能夠視物體的表面狀況改變測量的方式，以決定最佳化的測量模式。值得注意的是，光學穿透模塊具有不同的光學系數，而控制模塊可依已知的光學系數及測得的回饋信號輸出合適的測量模式。

相較于現有技術，根據本發明的光學測量裝置是利用光學穿透模塊具有至少一光學系數，且控制模塊比對回饋信號及光學系數以得到表面特性。此外，光學測量裝置通過光學穿透模塊控制反射光強度，故能夠測量具高反射性表面的待測物。在實際應用中，光學測量裝置依據表面特性，不但能選擇性地改變測量模式，有效進行最佳化的測量方式，故能夠測量各種反射率的物體表面。

關于本發明的優點與精神可以通過以下的發明詳述及所附圖式得到進一步的了解。

附圖說明

圖1為本發明的光學測量裝置的實施例示意圖；

圖2為本發明的光學測量模塊的實施例示意圖；

圖3為本發明的光學測量裝置的另一實施例示意圖；

圖4為本發明的光學測量裝置的另一實施例示意圖；

圖5為本發明的光學穿透模塊的另一實施例示意圖；

圖6為本發明的光學測量裝置的另一實施例示意圖；

圖7為本發明的光學測量裝置的另一實施例示意圖。

主要元件符號說明：

1、1A～1D：光學測量裝置??700：轉動軸

2：物體

10、10A：光學穿透模塊

20：光學測量模塊

22：表面

30：數據處理模塊

40：控制模塊

50：光信號

50A：第一光信號

50B：第二光信號

51B：第二光程差信號

60：移動模塊

70：轉動模塊

110：光學層

120A：流體光學層

120B：膠體光學層

120C：薄膜光學層

210：分光單元