[發明專利]一種基板的清洗方法有效
| 申請號： | 201310231298.2 | 申請日： | 2013-06-09 |
| 公開（公告）號： | CN103286091B | 公開（公告）日： | 2017-09-19 |
| 發明（設計）人： | 張毅;翁銘廷;程大富;郭知廣;尹希磊 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司 |
| 主分類號： | B08B3/08 | 分類號： | B08B3/08;B08B3/10;B08B3/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知識產權代理有限公司11002 | 代理人： | 王瑩 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 清洗 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種基板的清洗方法，其特征在于，包括：
對基板進行預加熱處理；
采用清洗劑對預處理過的基板進行溶解清洗，
具體地，對己經過預熱處理的基板噴灑清洗劑，利用清洗劑溶解基板表面的有機異物，將附著在基板上的有機異物徹底去除，其中，該清洗劑選用與基板上的有機異物可相似相溶的清洗劑；
對清洗后的基板進行二次沖洗，
其中，所述對清洗后的基板進行二次沖洗具體包括：采用高壓純水或高壓水汽二流體對基板進行沖洗，
所述清洗劑為可溶解基板表面的有機異物的無機溶劑，所述無機溶劑為氨水和水素水的混合溶液，所述氨水與水素水的體積比為：1:3～2:1。
2.如權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述預加熱處理具體包括：
采用熱氣源、熱水源或紅外熱源對基板進行加熱處理。
3.如權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述基板預熱的溫度為40～120℃。
4.如權利要求3所述的清洗方法，其特征在于，所述基板預熱的溫度為100～120℃。
5.如權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述氨水與水素水的體積比為：1：1。
6.如權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，采用清洗劑對基板進行清洗的過程中，還包括對基板進行二次加熱。
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