[發明專利]酸性蝕刻液的處理工藝及系統有效
| 申請號： | 201310231008.4 | 申請日： | 2013-06-09 |
| 公開（公告）號： | CN103290415A | 公開（公告）日： | 2013-09-11 |
| 發明（設計）人： | 張湘梅;陳鑒銓;周漫;彭鵬;武斌 | 申請（專利權）人： | 贛州聚環科技有限公司 |
| 主分類號： | C23F1/46 | 分類號： | C23F1/46;C25C1/12;B01D11/04 |
| 代理公司： | 北京聯瑞聯豐知識產權代理事務所(普通合伙) 11411 | 代理人： | 鄭自群 |
| 地址： | 341000 江西*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 酸性 蝕刻 處理 工藝 系統 | ||
1.一種酸性蝕刻液的處理工藝，其特征在于包括以下步驟：
隔膜電解
以稀硫酸溶液作為陽極液，稀釋后的酸性蝕刻液作為陰極液，以有二氧化銥涂層的鈦板作為陽極電解板，以無涂層鈦板為陰極電解板，電流密度為400-800A/m2，Cu2+濃度降到20g/L以下時停止電解，回收陰極液；
萃取
控制回收的陰極液中銅離子含量為20-25g/L，氫離子含量為2-3mol/L，利用10-30%氨水調節pH值到4.5-8，用銅萃取劑萃取該溶液，其油液比為1：1～1：3；
反萃取
用15-25%硫酸反萃取含銅萃取液，V硫酸/V含銅萃取液=1：1～1：3；
電積
控制萃余液中銅離子含量為5-40g/L，以有二氧化銥涂層的鈦板作為陽極，以銅板為陰極，電流密度為50-400A/m2。
2.如權利要求1所述的處理工藝，其特征在于，在陽極框中，稀硫酸溶液的質量濃度為15-25%。
3.如權利要求1所述的處理工藝，其特征在于，陽極電解板與陰極電解板的間距60mm，電壓3.6V。
4.如權利要求1至3任意一項所述的處理工藝，其特征在于，電解時間為兩個小時。
5.一種實施權利要求1所述處理工藝的處理系統，其特征在于包括：
一隔膜電解裝置，所述隔膜電解裝置具有電解槽，一隔膜將該電解槽分割為陽極框和陰極槽，所述陽極框盛放稀硫酸溶液，所述陰極槽盛放稀釋后的酸性蝕刻液，二氧化銥涂層的鈦板作為陽極電解板，以無涂層鈦板為陰極電解板；
一萃取裝置，所述萃取裝置包括混料部分、萃取部分，所述混料部分混合電解后的酸性蝕刻液和氨水，并將混合后的溶液送至所述萃取部分，所述萃取部分通過銅萃取液萃取混合液；
一反萃取裝置，所述反萃取采用15-25%硫酸反萃取含銅萃取液；
一電積裝置，所述電積裝置以有二氧化銥涂層的鈦板作為陽極，以銅板為陰極，電流密度為50-400A/m2。
6.如權利要求5所述的處理系統，其特征在于，陽極電解板與陰極電解板的間距60mm，溫度為常溫，電壓3.6V。
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