[發(fā)明專利]酸性蝕刻液的處理工藝及系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310231008.4
• 申請(qǐng)日: 2013-06-09
• 公開（公告）號(hào): CN103290415A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張湘梅;陳鑒銓;周漫;彭鵬;武斌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 贛州聚環(huán)科技有限公司
• 主分類號(hào): C23F1/46
• 分類號(hào): C23F1/46;C25C1/12;B01D11/04
• 代理公司: 北京聯(lián)瑞聯(lián)豐知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11411
• 代理人: 鄭自群

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種印刷線路板的蝕刻液處理工藝，尤其涉及一種酸性時(shí)刻液的處理工藝。?

背景技術(shù)

印刷線路板的酸性蝕刻液中，廢液含銅量達(dá)100g/L以上，如不能很好回收利用，將導(dǎo)致銅資源的大量流失和對(duì)環(huán)境的嚴(yán)重污染。現(xiàn)有技術(shù)提供了一些酸性蝕刻液的處理工藝，如CN201210438732.X的那種隔膜電解工藝。這種隔膜電解工藝提供了一種不會(huì)析氯的電解工藝，但是當(dāng)銅離子濃度較低時(shí)，能量消耗較大。結(jié)合萃取反萃取與電積工藝可以反復(fù)使用，逐漸降低銅離子的濃度，該工藝可以產(chǎn)生品質(zhì)較佳的銅板。?

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提出一種酸性蝕刻液的處理工藝，解決了現(xiàn)有技術(shù)中不便于充分處理高濃度的酸性蝕刻液的缺陷。?

本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的：一種酸性蝕刻液的處理工藝，其特征在于包括以下步驟：?

隔膜電解?

以稀硫酸溶液作為陽(yáng)極液，稀釋后的酸性蝕刻液作為陰極液，以有二氧化銥涂層的鈦板作為陽(yáng)極電解板，以無(wú)涂層鈦板為陰極電解板，電流密度為400-800A/m²，Cu²⁺濃度降到20g/L以下時(shí)停止電解，回收陰極液；?

萃取?

控制回收的陰極液中銅離子含量為20-25g/L，氫離子含量為2-3mol/L，利用10-30%氨水調(diào)節(jié)pH值到4.5-8，用銅萃取劑萃取該溶液，其油液比為1：1～1：?3；?

反萃取?

用15-25%硫酸反萃取含銅萃取液，V硫酸/V含銅萃取液=1：1～1：3；?

電積?

控制萃余液中銅離子含量為5-40g/L，以有二氧化銥涂層的鈦板作為陽(yáng)極，以銅板為陰極，電流密度為50-400A/m²。?

優(yōu)選的，稀釋后的酸性蝕刻液中，銅離子濃度為30-40g/L。?

優(yōu)選的，在陽(yáng)極框中，稀硫酸溶液的質(zhì)量濃度為15-25%。?

優(yōu)選的，陽(yáng)極電解板與陰極電解板的間距60mm，電壓3.6V。?

優(yōu)選的，電解時(shí)間為兩個(gè)小時(shí)。?

一種酸性蝕刻液的處理系統(tǒng)，其特征在于依次包括：?

一隔膜電解裝置，所述隔膜電解裝置具有電解槽，一隔膜將該電解槽分割為陽(yáng)極框和陰極槽，所述陽(yáng)極框盛放稀硫酸溶液，所述陰極槽盛放稀釋后的酸性蝕刻液，二氧化銥涂層的鈦板作為陽(yáng)極電解板，以無(wú)涂層鈦板為陰極電解板；?

一萃取裝置，所述萃取裝置包括混料部分、萃取部分，所述混料部分混合電解后的酸性蝕刻液和氨水，并將混合后的溶液送至所述萃取部分，所述萃取部分通過(guò)銅萃取液萃取混合液；?

一反萃取裝置，所述反萃取采用15-25%硫酸反萃取含銅萃取液；?

一電積裝置，所述電積裝置以有二氧化銥涂層的鈦板作為陽(yáng)極，以銅板為陰極，電流密度為50-400A/m²。?

優(yōu)選的，陽(yáng)極電解板與陰極電解板的間距60mm，溫度為常溫，電壓3.6V。?

實(shí)施本發(fā)明這種酸性蝕刻液，具有以下有益效果：?

1、運(yùn)用隔膜電解與萃取-萃取復(fù)合工藝處理酸性蝕刻廢液，整套工藝同時(shí)具有隔膜電解與萃取工藝的優(yōu)點(diǎn)，避免了二者在蝕刻液回用調(diào)藥中補(bǔ)加大量鹽酸、?雙氧水、氯化銨等帶來(lái)的巨大體積增量；?

2、酸性蝕刻液再生銅回收系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)表現(xiàn)為其先采用隔膜電解對(duì)高銅廢液處理，使再生蝕刻液擁有與子液相當(dāng)?shù)奈g刻容量，也保證再生蝕刻液性能的穩(wěn)定，保證生產(chǎn)的品質(zhì)達(dá)到要求，隔膜電解工藝滿足了電解提銅優(yōu)于常規(guī)隔膜電解的電銅電效，也避免了陽(yáng)極析氯反應(yīng)造成對(duì)環(huán)境的二次污染；?

3、萃取工藝處理隔膜電解產(chǎn)生增量的低銅蝕刻液較常規(guī)萃取工藝大大減少萃取前pH調(diào)整消耗的物料，高效的萃取劑也可以按工藝要求變的簡(jiǎn)單直接，處理后的藥液直接可以進(jìn)污水處理的綜合池。本工藝很好的解決了隔膜電解工藝對(duì)增量部分藥液處理不了的難題，治理工藝更加完善。?

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。?

圖1為本發(fā)明的酸性蝕刻液的處理工藝的流程圖；?

圖2為本發(fā)明的酸性蝕刻液的處理系統(tǒng)的示意圖。?

具體實(shí)施方式